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J-GLOBAL ID：201702283251145683   整理番号：17A0448921

障害上のAu表面層状Bi-2212セラミックスと依存性転移温度のための最適拡散焼なまし温度の決定【Powered by NICT】

Determination of optimum diffusion annealing temperature for Au surface-layered Bi-2212 ceramics and dependence of transition temperatures on disorders

著者 (1件)： Yildirim G. (Abant Izzet Baysal University, Department of Mechanical Engineering, Bolu, 14280, Turkey)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 699  ページ： 247-255  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,結晶構造,dc抵抗率と粉末X線回折測定によるAu表面層状Bi-2212セラミックの電気的および超伝導特性に対する拡散アニーリング温度(600 °C 850 °C)の影響を実験的に解明するため,障害と転移温度の間の経験的関係の詳細な理解を深めることである。800°Cの拡散焼なまし温度は層内の障害と局所構造歪の後退による結晶構造の改善のための最適であることを見出し,準安定性σギャップ異方性とAgとB1gフォノンの軟化を増加していることが分かった。,Auナノ粒子は,化合物の本質的過剰ドープ性質から最適ドープ状態。,臨界温度およびΔρパラメータ(障害に関連した)の間の経験的関係は,最大開始を達成し,Bi-2212セラミックの90.467Kと90.359Kの臨界温度値を相殺できることを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 臨界温度 ,  *転移温度 ,  フォノン ,  *表層 ,  超伝導 ,  結晶構造 ,  ドーピング ,  銀 ,  電気抵抗率
準シソーラス用語： 準安定性 ,  局所構造 ,  *均質化処理 ,  粉末X線回折 ,  *焼きなまし温度 ,  *Bi2212 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Bi-2212セラミック ,  拡散機構 ,  温度依存性 ,  構造不規則性

分類 (4件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I) ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  (BK07020Y)

タイトルに関連する用語 (9件)： 障害 ,  Au ,  表面層 ,  Bi-2212 ,  セラミックス ,  依存性 ,  転移温度 ,  拡散 ,  焼なまし温度