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J-GLOBAL ID：201702283344401372   整理番号：17A1456421

集束イオンビームと深紫外レーザ照射を用いた単結晶ダイヤモンド表面上のサブミクロンスケールのパターニング【Powered by NICT】

Sub-micrometer scale patterning on single-crystal diamond surface using focused ion beam and deep ultraviolet laser irradiations

著者 (5件)： Kawasegi Noritaka (Central Research Institute, Toyama Industrial Technology Center, 150 Futagami-machi, Takaoka-shi, Toyama 933-0981, Japan) ,  Yamaguchi Makoto (Graduate School of Engineering, Akita University, 1-1 Tegatagakuen-machi, Akita-shi, Akita 010-8502, Japan) ,  Kozu Tomomi (Graduate School of Engineering, Akita University, 1-1 Tegatagakuen-machi, Akita-shi, Akita 010-8502, Japan) ,  Morita Noboru (Graduate School of Engineering, Chiba University, 1-33 Yayoi-cho, Inage-ku, Chiba-shi, Chiba 263-8522, Japan) ,  Nishimura Kazuhito (Faculty of Engineering, Kogakuin University, 2665-1 Nakano-machi, Hachioji-shi, Tokyo 192-0015, Japan)
資料名： Precision Engineering  (Precision Engineering)
巻： 50  ページ： 337-343  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0734B  ISSN： 0141-6359  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,集束イオンビーム(FIB)と深紫外(DUV)レーザ照射の組合せを用いたサブミクロンスケールでの単結晶ダイヤモンドの表面をパターン化するための新しい方法を提案した。FIBを照射したダイヤモンドの表面積は低電力DUVレーザを用いて加工したが,非FIB照射領域はほとんど加工した。,ダイヤモンドはレーザを用いてFIB照射面積を加工選択的にサブミクロンスケールでパターン化することができる。このプロセスにおける加工特性を調べるために,FIBとDUVレーザ照射パラメータの影響を調べた。DUV照射領域の形状はガリウム除去段階を適用することにより改善された;デブリは形成されなかった。添加では,最大深さ約80nmの構造を作製した。FIB照射により誘起された損傷密度を用いて,FIBによって誘起された深さを決定することであった;この方法を用いて得られた深さは,空気中での加熱法の2倍以上である。凹面構造をこれらの結果に基づいて作製した。結果は,提案した方法は,ダイヤモンド表面上のサブミクロンメーター構造を作製するのに有効であることを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 表面積 ,  凹面 ,  *レーザ ,  *集束イオンビーム ,  *パターン形成 ,  *レーザ照射 ,  *ダイヤモンド ,  加工性 ,  *単結晶ダイアモンド ,  *深紫外線 ,  *鉱石 ,  *宝石

著者キーワード (7件)： 単結晶ダイヤモンド ,  集束イオンビーム ,  深紫外レーザ ,  パターン形成 ,  レーザーラマン分光 ,  ガリウム ,  熱処理

分類 (3件)： 切削一般  (QC02010V) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  特殊加工  (QC04000Y)

タイトルに関連する用語 (5件)： 集束イオンビーム ,  深紫外 ,  レーザ照射 ,  単結晶ダイヤモンド ,  パターニング