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J-GLOBAL ID:201702283497830432   整理番号:17A1495169

ヒドロキシアパタイト表面の汚染除去のための効果的なUV/オゾン照射法【Powered by NICT】

Effective UV/Ozone irradiation method for decontamination of hydroxyapatite surfaces
著者 (4件):
資料名:
巻:号:ページ: ROMBUNNO.2017.e00372  発行年: 2017年 
JST資料番号: W3098A  ISSN: 2405-8440  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本研究の目的は,UV/オゾン(O_3)照射法はヒドロキシアパタイト表面,形態学的および化学的表面分析(表面粗さ,X線光電子分光法および濡れ性)による30%りん酸溶液処理で改質したものを含むを効率的に脱汚染できるかどうかを確立するために,この方法を介して除染改質ヒドロキシアパタイト表面への骨芽細胞様MC3T3-E1細胞のin vitro応答を評価することであった。炭素の量とヒドロキシアパタイト表面の接触角は著しく≧5と≧3分持続した,それぞれUV/O_3照射により減少した(P<0.01)。,5分間の照射による除染H_3PO_4修飾ヒドロキシアパタイト表面の7日間貯蔵は接触角値(P>0.05)に影響しなかった。MC3T3-E1細胞増殖,分化(相対A LP及びOCNm RNAレベルにより評価した),および無機化は有意に照射された表面(P<0.05)に促進された。これらの知見は,5分以上有意に除染H_3PO_4修飾ヒドロキシアパタイト表面のUV/O_3照射,その濡れ性を改善し,骨芽細胞の増殖と機能を促進することを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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細胞生理一般 
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