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J-GLOBAL ID:201702283952036787   整理番号:17A1767469

真空プラズマ溶射法によりグラファイト上に堆積したタングステン被膜の性質

Properties of Tungsten Coatings Deposited on Graphite by Vacuum Plasma Spraying Method
著者 (4件):
資料名:
巻: 17  号: 11  ページ: 8539-8544  発行年: 2017年11月 
JST資料番号: W1351A  ISSN: 1533-4880  CODEN: JNNOAR  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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真空プラズマ溶射法を用いて,グラファイト(CX-2320)基板上に厚みが409μm(中間層なし)と378μm(中間層あり)のタングステン被膜を堆積させた。基板の濡れ性を高めるためのサンドブラストと予備加熱,及び被覆層の微細構造安定化のための後加熱からなる最適被覆手順を開発し,高品質の被膜を得た。Vickers硬さ試験機,FE-SEM,EDS,XRDを用いてタングステン被覆層の機械的特性と微細構造を調べた。Ti中間層はタングステン層への炭素の拡散を防止し,炭化タングステンの生成を抑制した。高熱負荷試験では,被覆層中に細孔が成長して増殖したが,結合層には亀裂や剥離の兆候は見られなかった。
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分類 (1件):
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核融合装置 

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