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J-GLOBAL ID:201702284051973335   整理番号:17A1288151

化学エッチング過程における溶融シリカ表面堆積物の形成とそれらのレーザ損傷への影響【JST・京大機械翻訳】

Formation of redeposit in chemical etching process of fused silica and its effect on laser-induced damage
著者 (9件):
資料名:
巻: 29  号:ページ: 1-6  発行年: 2017年 
JST資料番号: C2482A  ISSN: 1001-4322  CODEN: QYLIEL  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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化学エッチングは,溶融シリカの光学的性質を向上させるための重要な後処理技術の1つであるが,エッチング後の溶融シリカ表面に付着した堆積物は,表面品質,透過性,およびレーザ損傷抵抗に大きな影響を及ぼすことが知られている。光学顕微鏡と原子間力顕微鏡を用いて、化学エッチング後に溶融石英表面に付着した堆積物の顕微鏡的形態を特性化し、その形成メカニズムを分析した。X線エネルギースペクトルの分析により、化学エッチング後の溶融石英表面堆積物は主にFe、Ni、Alなどの元素の金属塩からなることが明らかになった。損傷閾値の測定結果により、溶融石英表面の高密度堆積物区域の損傷閾値は明らかに非堆積物区域より低く、堆積物は溶融石英の光学要素の抗レーザー損傷性能に対して深刻な影響を与え、それらは石英のレーザー損傷を誘導する前駆体であることが明らかになった。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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著者キーワード (5件):
分類 (3件):
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固体の表面構造一般  ,  半導体薄膜  ,  顕微鏡法 
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