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J-GLOBAL ID：201702284120424903   整理番号：17A1016974

小ロジウムクラスタカチオンのNO反応性に及ぼす第二金属(Al,V,Co)ドーピング影響

Effects of Second-Metal (Al, V, Co) Doping on the NO Reactivity of Small Rhodium Cluster Cations

著者 (2件)： HIRABAYASHI Shinichi (Genesis Res. Inst., Inc., Chiba, JPN) ,  ICHIHASHI Masahiko (Genesis Res. Inst., Inc., Chiba, JPN)
資料名： Journal of Physical Chemistry A  (Journal of Physical Chemistry A)
巻： 121  号： 13  ページ： 2545-2551  発行年： 2017年04月06日 
JST資料番号： C0334B  ISSN： 1089-5639  CODEN： JPCAFH  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 金属クラスタ ,  *ロジウム ,  *クラスタイオン ,  *カチオン ,  *一酸化窒素 ,  反応性 ,  *ドーピング ,  アルミニウム ,  *バナジウム ,  コバルト ,  全断面積 ,  生成物 ,  窒化物 ,  酸化物 ,  *放出 ,  *分解反応 ,  解離吸着 ,  触媒 ,  吸着エネルギー ,  *自動車排出ガス
準シソーラス用語： *自動車排気ガス ,  *NOx除去 ,  エネルギー障壁 ,  クラスタサイズ ,  サイズ依存性 ,  タンデム質量分析計 ,  触媒コンバータ ,  *窒素分子 ,  低減 ,  反応断面積

分類 (4件)： 原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  排ガス処理  (PB02060U) ,  貴金属触媒  (CB06122I) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D)

タイトルに関連する用語 (5件)： NO ,  反応性 ,  Al ,  CO ,  ドーピング