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J-GLOBAL ID:201702284371967979   整理番号:17A1453605

DMF活性クロロシラン化学:初期R′_3SiOSiR′_3とR_3SiClを形成するR_3SiH,DMFおよびR′3SiClのモリブデン触媒反応【Powered by NICT】

DMF-activated chlorosilane chemistry: Molybdenum-catalyzed reactions of R3SiH, DMF and R′3SiCl to initially form R′3SiOSiR′3 and R3SiCl
著者 (3件):
資料名:
巻: 466  ページ: 376-381  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0620A  ISSN: 0020-1693  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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触媒として(Me_3N)Mo(CO)5の存在下にジメチルホルムアミド(DMF)の過剰,R_3SiH(R_3=Et_3,PhMe_2,Ph_2Me)とR’3SiCl(R′_3=Me_3,PhMe_2,Ph_2Me)の間の室温反応は~29Si,~13C,~1H NMR分光法及びGC/MSにより検出されたR_3SiCl,R_3SiOSiR′_3とMe_3Nの初期形成をもたらした。反応が進行するにつれて,より多くの反応温度が上昇した場合,混合ジシロキサンR_3SiOSiR′3と最終的に少量R_3SiOSiR_3が検出される可能性がある。求核DMFによるクロロシランの活性化を含む機構を過渡イミニウムシロキシイオン対,[Me_2NCHCl]~+[R′_3SiO]~ を生成するために提案される。[Me_2NCH(OSiR′3)]~+Cl~-R_3SiHと反応してMe_2NCH_2OSiR′3とR_3SiClを形成する。R′_3SiClとMe_2NCH_2OSiR′3の二次反応は対称ジシロキサンR′_3SiOSiR′3とClCH_2NMe_2を生成した。反応の最終段階は,R_3SiHによるClCH_2NMe_2の低減,初めて報告されている反応である。新しく生成したクロロシランR_3SiClは初期DMF活性化化学,反応が進むにつれて観察された他のジシロキサンを形成に関与するとなる可能性がある。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (3件):
分類
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白金族元素の錯体  ,  鉄族元素の錯体の結晶構造  ,  鉄の錯体 

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