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J-GLOBAL ID:201702285220278588   整理番号:17A1553280

PとUSYと同時に担体修飾によるNi/ASA触媒上での水素化活性と耐硫黄性の促進【Powered by NICT】

Promotion of hydrogenation activity and sulfur resistance over Ni/ASA catalyst by support modification simultaneously with P and USY
著者 (5件):
資料名:
巻:号: 66  ページ: 41460-41470  発行年: 2017年 
JST資料番号: U7055A  ISSN: 2046-2069  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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個別及び同時P及びUSY促進非晶質SiO_2~-Al_2O_3(ASA)に担持したNi触媒はcis 9 オクタデセニルアミンの助けを借りて水熱合成法を用いて調製した。触媒をX線回折(XRD),N_2吸着と脱着,紫外可視拡散反射分光法,吸着ピリジン(Py IR)のFTIR分光法,透過型電子顕微鏡(TEM),温度プログラム水素還元(H_2TPR)及びX線光電子分光法(XPS)によって特性化した。ナフタレン水素化の活性に及ぼすPとUSY負荷の影響は,以下の反応条件下で固定床反応器で評価した:P=4MPa,GHSV=16h~( 1),H_2/油=600体積比,200%,240%,280及び320°Cであった。実験結果はすべての個々のPとUSY改質した触媒は200 280°Cで自由にPとUSY修飾触媒よりも高い水素化活性を示したことを確かめた。さらに,1.0wt%Pおよび10wt%USYで同時に修飾した触媒は最も高い水素化活性と硫黄耐性を持っていた。多重効果,金属分散,酸量,活性なNi°化学種の表面曝露と[Ni_Oh~2+]/[Ni_Td~2+]比などのPとUSY促進触媒の高い水素化活性の原因である。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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光化学一般  ,  光化学反応 

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