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J-GLOBAL ID：201702286011663716   整理番号：17A1485220

高荷電イオンの生成のための汎用主磁気集束イオン源【Powered by NICT】

Universal main magnetic focus ion source for production of highly charged ions

著者 (4件)： Ovsyannikov V.P. (MaMFIS Group, Hochschulstr. 13, D-01069 Dresden, Germany) ,  Nefiodov A.V. (Petersburg Nuclear Physics Institute, 188300 Gatchina, St. Petersburg, Russia) ,  Levin A.A. (MaMFIS Group, Hochschulstr. 13, D-01069 Dresden, Germany) ,  Levin A.A. (MaMFIS Lab, Shatelen Str. 26A, 194021 St. Petersburg, Russia)
資料名： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 408  ページ： 329-333  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0899A  ISSN： 0168-583X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 新しい室温小型イオン源はエネルギーEeと電流密度j e広範囲(100eV≦E e≦60 keV, 10A/cm~2≦j e≦20kA/cm~2)内の制御と電子ビームによる原子イオンの効率的生産のために開発した。最初の実験では,Ir~64+イオンのX線放射を測定した。二つの異なる技術の組合せに基づいて,素子は,従来の電子ビームイオン源/トラップと新しい主磁気集束イオン源の両方として動作させることができる。調整可能な電子光学系は,単一の実験装置内の層流および乱流電子流を実現可能にした。デバイスは標準大学研究室での基本と応用研究のための主にを意図している。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *磁気 ,  電子ビーム ,  乱流 ,  *集束 ,  *電荷 ,  *イオン源 ,  電子光学 ,  *イオン ,  電流密度 ,  層流
準シソーラス用語： 電子流 ,  X線放射 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： 原子イオン ,  イオン源 ,  平滑とリップルがある電子ビーム

分類 (1件)： 電子源,イオン源  (BD02020U)

タイトルに関連する用語 (6件)： 荷電 ,  イオン ,  汎用 ,  磁気 ,  集束 ,  イオン源