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J-GLOBAL ID：201702286045374573   整理番号：17A0949009

表面修飾による高分子超薄膜の高機能化に関する検討

著者 (5件)： 甲斐仁智 (東海大) ,  岡村陽介 (東海大) ,  槌谷和義 (東海大) ,  橋本巨 (東海大) ,  砂見雄太 (東海大)
資料名： 日本機械学会情報・知能・精密機器部門講演会論文集(CD-ROM)  (日本機械学会情報・知能・精密機器部門講演会(CD-ROM))
巻： 2017  ページ： ROMBUNNO.D2(D-02)  発行年： 2017年03月13日 
JST資料番号： L1518B  ISSN： 2424-3140  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では,膜厚100[nm]以下のフィルムである高分子超薄膜(ナノシート)をR2R生産方式とマイクログラビア印刷を用いて大量創製を行った。表面にハニカム構造を有するエンボスロールを用いることによりハニカムPETフィルム基板を作製した。まず,その基板に簡易的にナノシートを作製し観察を行った。エンボスロールのハニカム構造が転写されていることが確認された。これよりエンボス加工を用いることによリナノシートに表面修飾することが有用であることがわかった。(著者抄録)

シソーラス用語： *表面改質 ,  高分子薄膜 ,  *超薄膜 ,  ハニカム構造 ,  ポリエチレンテレフタレート ,  *エンボス加工 ,  ナノシート ,  グラビア印刷 ,  生産方式 ,  厚み制御
準シソーラス用語： ロール・ツー・ロール ,  *高分子超薄膜 ,  *表面修飾

分類 (1件)： 薄膜一般  (BK14010X)

タイトルに関連する用語 (3件)： 表面修飾 ,  高分子超薄膜 ,  高機能化