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J-GLOBAL ID:201702286120970008   整理番号:17A1444480

コヒーレント成長させたm面InGaN膜におけるIn原子の周りの局所構造【Powered by NICT】

Local structure around In atoms in coherently grown m-plane InGaN film
著者 (4件):
資料名:
巻: 24  号:ページ: 1012-1016  発行年: 2017年 
JST資料番号: W0763A  ISSN: 0909-0495  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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自立m面GaN基板上にコヒーレント成長させたm面In_0 0.06Ga_0 0.94N膜中のIn原子の周りの局所構造を偏光依存X線吸収微細構造により調べた。m面ウルツ鉱型構造のために提案した段階的フィッティング法。第一最近接In-N原子対の原子間距離はほぼ等方的であった。第二近接In-Ga対では,m面圧縮歪に対して予想されるようにmand a軸に沿った原子間距離は無歪仮想結晶のものより,それぞれ,長く短かった。対照的に,c軸方向のIn-Ga原子間距離は圧縮歪にもかかわらず,m面上の異方的原子構造の観点から説明されるに伸びた。m面膜における局所歪はコヒーレントに成長させたc面単一量子井戸よりも緩和した。いくつかのIn原子は全ての方向における原子的に局在し,このようにして局在化した励起子発光をc面InGaNの場合のように期待されている。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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X線技術  ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造 
タイトルに関連する用語 (5件):
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