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J-GLOBAL ID：201702286336727828   整理番号：17A0688064

放射光広角・小角X線散乱同時測定によるポリフッ化ビニリデンの高電場下での構造変化追跡

Structural Changes if Poly(vinylidene Fluoride) under High Electric Field Based on the Timeresolved Simultaneous Synchrotron Wide- and Small-angle X-ray Scattering Measurements

著者 (4件)： 田代孝二 (豊田工大 大学院) ,  山元博子 (豊田工大 大学院) ,  青山光輝 (JASRI SPring-8) ,  岩本裕之 (JASRI SPring-8)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 66  号： 1  ページ： ROMBUNNO.1C23  発行年： 2017年05月15日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *小角X線散乱 ,  *X線散乱 ,  *大角散乱 ,  *ポリフッ化ビニリデン ,  *電場 ,  立体配座 ,  分子鎖 ,  結晶構造 ,  双極子 ,  ラメラ ,  熱処理
準シソーラス用語： コンフォメーション ,  極性反転 ,  *広角X線散乱 ,  *構造変化 ,  *高電場 ,  反射強度

分類 (2件)： その他の高分子材料  (YH07150C) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (7件)： 放射光 ,  広角 ,  小角X線散乱 ,  同時測定 ,  ポリフッ化ビニリデン ,  高電場 ,  追跡