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J-GLOBAL ID：201702286691551113   整理番号：17A0407900

真空UV照射下でのMn修飾TiO_2/ZSM-5上でのベンゼンの接触酸化【Powered by NICT】

Catalytic oxidation of benzene over Mn modified TiO₂/ZSM-5 under vacuum UV irradiation

著者 (9件)： Huang Haibao (School of Environmental Science and Engineering, Sun Yat-Sen University, China) ,  Huang Huiling (School of Environmental Science and Engineering, Sun Yat-Sen University, China) ,  Feng Qiuyu (School of Environmental Science and Engineering, Sun Yat-Sen University, China) ,  Liu Gaoyuan (School of Environmental Science and Engineering, Sun Yat-Sen University, China) ,  Zhan Yujie (School of Environmental Science and Engineering, Sun Yat-Sen University, China) ,  Wu Muyan (School of Environmental Science and Engineering, Sun Yat-Sen University, China) ,  Lu Haoxian (School of Environmental Science and Engineering, Sun Yat-Sen University, China) ,  Shu Yajie (School of Environmental Science and Engineering, Sun Yat-Sen University, China) ,  Leung Dennis Y.C. (Department of Mechanical Engineering, The University of Hong Kong, Pokfulam Road, Hong Kong)
資料名： Applied Catalysis. B: Environmental  (Applied Catalysis. B: Environmental)
巻： 203  ページ： 870-878  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0375A  ISSN： 0926-3373  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 真空紫外(VUV)照射はガス状ベンゼンの光触媒分解を改善するために使用した。0.1%Mn/TiO_2/zsm 5の多機能光触媒はO_3の除去と利用,VUV照射から発生する副産物のための改良ゾル-ゲル法により開発した。O_3は完全に除去され,オゾン接触酸化(OZCO)によるベンゼンの触媒酸化を向上させるために使用した。VUV照射の下では,ベンゼン除去効率は安定して0.1%Mn/TiO_2/zsm 5~100%に維持されたが,それはわずか約50%とはるかにO_3は市販TiO_2(P25)の残留。0.1%Mn/TiO_2/zsm 5はVUV照射との相乗作用を与えたた。光触媒酸化に加えて,より効率的な経路を提供し,ベンゼンの分解。VUV照射と0.1%Mn/TiO_2/zsm 5上でのベンゼン分解の可能な機構を提案した。O_3除去と利用のための優れた性能を有する効率的光触媒の最初の報告である。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： オゾン ,  光触媒 ,  *接触酸化 ,  *紫外線照射 ,  相乗作用 ,  ゾル-ゲル法 ,  *マンガン ,  芳香族炭化水素
準シソーラス用語： 光触媒酸化 ,  除去効率 ,  多機能 ,  光触媒分解 ,  真空紫外 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： Mn/TiOは-2/zsm 5 ,  多機能光触媒 ,  真空UV照射 ,  O_3除去と利用 ,  ベンゼンの分解

分類 (2件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  有害ガス処理法  (SC04030H)

物質索引 (1件)： ベンゼン

タイトルに関連する用語 (7件)： 真空 ,  UV照射 ,  Mn ,  修飾 ,  ZSM-5 ,  ベンゼン ,  接触酸化