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J-GLOBAL ID：201702286759151819   整理番号：17A1460498

スプレー塗装によるガス精製のための非酸化物SiC膜の調製【Powered by NICT】

Preparation of non-oxide SiC membrane for gas purification by spray coating

著者 (7件)： Wei Wei (State Key Laboratory of Materials-Oriented Chemical Engineering, National Engineering Research Center for Special Separation Membrane, Nanjing Tech University, Nanjing 210009, China) ,  Zhang Weiqi (State Key Laboratory of Materials-Oriented Chemical Engineering, National Engineering Research Center for Special Separation Membrane, Nanjing Tech University, Nanjing 210009, China) ,  Jiang Qian (State Key Laboratory of Materials-Oriented Chemical Engineering, National Engineering Research Center for Special Separation Membrane, Nanjing Tech University, Nanjing 210009, China) ,  Xu Peng (State Key Laboratory of Materials-Oriented Chemical Engineering, National Engineering Research Center for Special Separation Membrane, Nanjing Tech University, Nanjing 210009, China) ,  Zhong Zhaoxiang (State Key Laboratory of Materials-Oriented Chemical Engineering, National Engineering Research Center for Special Separation Membrane, Nanjing Tech University, Nanjing 210009, China) ,  Zhang Feng (State Key Laboratory of Materials-Oriented Chemical Engineering, National Engineering Research Center for Special Separation Membrane, Nanjing Tech University, Nanjing 210009, China) ,  Xing Weihong (State Key Laboratory of Materials-Oriented Chemical Engineering, National Engineering Research Center for Special Separation Membrane, Nanjing Tech University, Nanjing 210009, China)
資料名： Journal of Membrane Science  (Journal of Membrane Science)
巻： 540  ページ： 381-390  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0669A  ISSN： 0376-7388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiC膜のようなセラミック膜は,ダストを除去するためのガスろ過における広く使用されている。しかしながら,空気中で焼結するとSiCの酸化は避けられないが,これはSiC膜応用を制限している。非酸化物SiC膜を調製するためにSiCの酸化を制御する方法は重要な工業的要求である。本研究では,SiCホイスカ層を用いて,被覆の前にSiC担体の表面細孔チャンネルを修飾した。SiC膜の層はスプレーコーティング法を用いたSiC担体の表面上に作製した。被覆試料は異なった温度範囲でスイッチング焼結雰囲気による特異的焼結法を用いて焼結した非酸化物SiC膜の均一で欠陥のない微細構造を生成した。SiC膜の平均細孔径は2.31μmであった。添加では,膜はSiCホイスカ層のない膜と比較して窒素フラックスの31%の増加を示した。SiC膜は整合熱膨張係数を持つことを膜組成(ムライト,ZrSiO_4,CaSiO_3とSiC)の特性のために優れた化学的,熱的抵抗を示した。SiC膜は効果的にd_50=0.3μmのダストを用いたろ過試験でダスト濃度を減少させた250mgm~ 3から0.12mgm~ 3に,105.2mのガスろ過透過性は~3m~ 2時間~( 1)kPa~( 1)ときに,ろ過効率99.95%を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *酸化物 ,  焼結 ,  熱膨張係数 ,  *炭化ケイ素 ,  微細構造 ,  ホイスカ ,  *スプレー塗装 ,  セラミック膜 ,  細孔径 ,  被覆 ,  スイッチング ,  塵埃 ,  窒素 ,  細孔
準シソーラス用語： 透過性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： SiC膜 ,  スプレーコーティング ,  ガス精製 ,  焼結雰囲気

分類 (1件)： 膜分離  (XD02120Z)

タイトルに関連する用語 (5件)： スプレー塗装 ,  ガス精製 ,  酸化物 ,  SiC ,  調製