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J-GLOBAL ID:201702286855664002   整理番号:17A0593032

超両親媒性シリコンウエハ表面と均一な高分子膜調製への応用

Superamphiphilic Silicon Wafer Surfaces and Applications for Uniform Polymer Film Fabrication
著者 (12件):
資料名:
巻: 56  号: 21  ページ: 5720-5724  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0127B  ISSN: 1433-7851  CODEN: ACIEAY  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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シリコンウエハは何十年も半導体工業に利用されてきた。過去数十年,有機光電材料の開発により,ケイ素を利用した有機-無機ハイブリッド素子が,基礎研究および応用研究で次第に興味を持たれていた。ハイブリッド素子用の均一な有機膜を得るために,水と油がどちらも完全に広がることのできる超両親媒性表面は,非常に有利であった。本報では,水と典型的な有機液体の両方のための接触角(CA)がおよそ0°の超両親媒性シリコンウエハ表面を調製した。興味深いことに,横方向モード(LFM)原子間力顕微鏡(AFM)イメージにより超両親媒性は,親水性ナノドメインと疎水性ナノドメインの交互ドメインにより誘起されることがわかった。これらの超両親媒性シリコンウエハ表面を利用することにより均一なポリピロール(PPy)膜が水とシクロペンタノンの両方の中で生成し,無機マイクロエレクトロニクス素子と有機光電材料の統合のための拡張可能で効率的な方法が得られた。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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固-液界面 
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