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J-GLOBAL ID：201702287040280986   整理番号：17A1718554

レーザアブレーション,スパッタリングとアーク放電によるナノ構造タングステンのエロージョン【Powered by NICT】

Erosion of nanostructured tungsten by laser ablation, sputtering and arcing

著者 (4件)： Hwangbo Dogyun (Graduate School of Engineering, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa, Nagoya 464-8603, Japan) ,  Kawaguchi Shota (Graduate School of Engineering, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa, Nagoya 464-8603, Japan) ,  Kajita Shin (Institute of Materials and Systems for Sustainability, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa, Nagoya 464-8603, Japan) ,  Ohno Noriyasu (Graduate School of Engineering, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa, Nagoya 464-8603, Japan)
資料名： Nuclear Materials and Energy  (Nuclear Materials and Energy)
巻： 12  ページ： 386-391  発行年： 2017年 
JST資料番号： W3044A  ISSN： 2352-1791  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ構造タングステン,ヘリウムプラズマ照射により形成された,レーザアブレーション,スパッタリングおよびアークが発生した場合の質量損失を調べた。ヘリウムスパッタリングエネルギーしきい値(<117eV)以下では,窒素と酸素のような不純物ガスによるスパッタリングが支配的であった。スパッタリング収率は入射イオンエネルギーの増大とともに理論値に近くなり,エネルギーは>200eVであったときヘリウムイオンによるスパッタリングが主要な寄与となった。ナノ構造表面に及ぼすスパッタリングの減少が観察された。アークはレーザパルスを用いて開始し,アークによる侵食速度を測定した。エロージョン速度はアーク電流と共に増加したが,Coulomb当たり侵食はアーク電流の影響を受けなかった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *タングステン ,  酸素 ,  *ナノ構造 ,  窒素 ,  *レーザアブレーション ,  浸食 ,  不純物 ,  *アーク放電 ,  レーザパルス ,  *スパッタリング
準シソーラス用語： アーク電流 ,  侵食速度 ,  イオンエネルギー ,  質量損失 ,  *エロージョン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： ナノ構造 ,  ヘリウムプラズマ ,  アーク ,  スパッタリング ,  侵食 ,  タングステン

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (6件)： レーザアブレーション ,  スパッタリング ,  アーク放電 ,  ナノ構造 ,  タングステン ,  エロージョン