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J-GLOBAL ID：201702287132706593   整理番号：17A0309909

高周波マグネトロンスパッタリングにより調製したTaドープZnO膜の微細構造と光学的性質【Powered by NICT】

Microstructural and optical properties of Ta-doped ZnO films prepared by radio frequency magnetron sputtering

著者 (9件)： Wu Yongheng (Tianjin Key Laboratory of Film Electronic and Communicate Devices, School of Electronics Information Engineering, Tianjin University of Technology, Tianjin 300384, PR China) ,  Li Cuiping (Tianjin Key Laboratory of Film Electronic and Communicate Devices, School of Electronics Information Engineering, Tianjin University of Technology, Tianjin 300384, PR China) ,  Li Mingji (Tianjin Key Laboratory of Film Electronic and Communicate Devices, School of Electronics Information Engineering, Tianjin University of Technology, Tianjin 300384, PR China) ,  Li Hongji (Tianjin Key Laboratory of Organic Solar Cells and Photochemical Conversion, School of Chemistry and Chemical Engineering, Tianjin University of Technology, Tianjin 300384, PR China) ,  Xu Sheng (Tianjin Key Laboratory of Film Electronic and Communicate Devices, School of Electronics Information Engineering, Tianjin University of Technology, Tianjin 300384, PR China) ,  Xu Sheng (School of Precision Instrument and Optoelectronics Engineering, Tianjin University, Tianjin 300072, PR China) ,  Wu Xiaoguo (Tianjin Key Laboratory of Film Electronic and Communicate Devices, School of Electronics Information Engineering, Tianjin University of Technology, Tianjin 300384, PR China) ,  Yang Baohe (Tianjin Key Laboratory of Film Electronic and Communicate Devices, School of Electronics Information Engineering, Tianjin University of Technology, Tianjin 300384, PR China) ,  Yang Baohe (School of Precision Instrument and Optoelectronics Engineering, Tianjin University, Tianjin 300072, PR China)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 42  号： 9  ページ： 10847-10853  発行年： 2016年07月 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 種々のドーピングレベル(0 5.02at%)とTaをドープしたZnO膜を高周波マグネトロンスパッタリングにより作製した。微細構造に及ぼすドーピング量と膜の光学的性質の影響を調べた。粒径と表面粗さは最初は著しく減少し,Taドーピング濃度の増加に伴って増加した。粒径と二乗平均平方根(RMS)粗さは3.32at%のドーピング含有量で最小値に達した。X線回折(XRD)パターンは,調製したTaをドープしたZnO膜は六方晶ウルツ鉱型構造と(002)面に沿って優先配向した多結晶であることを確認した。X線光電子分光法(XPS)分析から,Taは,Ta~5+とTa~4+状態のZnO薄膜中に存在することを明らかにした。TaをドープしたZnO膜の平均光透過率値は可視領域でドープしていないZnO膜のそれより高かった。透過スペクトルの吸収端から抽出したバンドギャップエネルギーが大きくなるとTaドーピング量が0at%から5.02at%に大きくなるとPLスペクトルから得られた近バンド端(NBE)発光エネルギーは高エネルギー側に青方偏移し,これはBurstein-Mossシフトによって説明できる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： X線回折 ,  *タンタル ,  多結晶 ,  六方晶系 ,  *ドーピング ,  X線光電子分光法 ,  粒径 ,  青方偏移 ,  *酸化亜鉛 ,  発光 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  優先配向
準シソーラス用語： バンドギャップエネルギー ,  光透過率 ,  *RFマグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： TaドープZnO膜 ,  マグネトロンスパッタリング ,  光学的性質 ,  Microstructure

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： 高周波マグネトロンスパッタリング ,  調製 ,  Ta ,  ドープ ,  ZnO ,  微細構造 ,  光学的性質