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J-GLOBAL ID：201702287313927332   整理番号：17A0875734

矩形波変調プラズマ分子線散乱法による水素吸着過程の評価

著者 (4件)： 齋木悠 (名古屋工大) ,  杵淵郁也 (東大) ,  FAN Yong (東大) ,  鈴木雄二 (東大)
資料名： 日本伝熱シンポジウム講演論文集(CD-ROM)
巻： 54th  ページ： ROMBUNNO.A131  発行年： 2017年 
JST資料番号： F0872D  ISSN： 1346-1532  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 燃焼器壁面の消炎効果には,壁面でのラジカルの吸着・再結合反応に起因する化学的効果が存在するが,その詳細なメカニズムの解明には,様々なラジカル種と壁面の吸着挙動の定量が必要であり,測定可能なラジカルが限られる燃焼実験のみでアプローチするのは難しい。本研究では,超高真空下での非平衡プラズマによるラジカル分子線および矩形波ビーム変調を利用した分子線散乱計測により,化学的効果のモデリングにおいて極めて重要な水素ラジカルの壁面吸着過程を直接的に調査することを目的とした。(著者抄録)

シソーラス用語： *吸着 ,  超高真空 ,  プラズマ ,  ラジカル ,  表面反応 ,  *器壁効果 ,  *燃焼器 ,  分子ビーム ,  計測 ,  石英 ,  信号変調 ,  消炎 ,  散乱計測 ,  水素ラジカル ,  *水素吸着 ,  低温プラズマ
準シソーラス用語： 非平衡プラズマ ,  分子線

分類 (1件)： 燃焼装置一般  (PA03010V)

タイトルに関連する用語 (8件)： 矩形波 ,  変調 ,  プラズマ ,  分子線 ,  散乱 ,  水素吸着 ,  過程 ,  評価