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J-GLOBAL ID:201702287423395217   整理番号:17A1967758

InGaN/InGaN多重量子井戸における「セミバルク」InGaNバッファ層を用いた発光波長赤方偏移【Powered by NICT】

Emission wavelength red-shift by using “semi-bulk” InGaN buffer layer in InGaN/InGaN multiple-quantum-well
著者 (15件):
資料名:
巻: 112  ページ: 279-286  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0600B  ISSN: 0749-6036  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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In_xGa_1xN/In_yGa_1 yN(x>y)多重量子井戸(MQW)の下~厚さ70nmの高品質セミバルク(SB)In_yGa_1 yNバッファ層を挿入することにより発光波長の伸長を報告した。InGaN SBバッファなしMQW構造はn-GaNテンプレート上の完全に歪んだが,バッファを持つMQW構造は~15%緩和を有していた。この小さな緩和と共にわずかな組成プリング誘起井戸厚増加MQWの発光波長の赤方偏移の理由であると信じられている。さらに,SB InGaNバッファは電子リザーバとして作用し,また,量子閉込めStark効果(QCSE)を減少させ,このようにして発光強度を増加させるのに役立つ。このようにして,完全に緩和させたバッファ誘起材料劣化を回避することにより,より長い発光波長はInGaN SB緩衝液を用いただけで達成できる参照構造として同じ全ての他の成長条件を維持した。良好なInGaN材料品質を維持するために「セミバルク」法により実現される,かなり厚い完全に歪んだまたはほとんど緩和したInGaNバッファは過剰インジウム(In)を使用せずに,緑色領域への,このバッファ上に成長させた,シアンに青色で発光するLEDを実現するための有益である。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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半導体のルミネセンス  ,  半導体薄膜 

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