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J-GLOBAL ID：201702287440777684   整理番号：17A1460451

欠損シリセンとリチウムイオン相互作用のナノスケールシミュレーション【Powered by NICT】

Nanoscale simulation of the lithium ion interaction with defective silicene

著者 (2件)： Galashev Alexander Y. (Institute of High-Temperature Electrochemistry, Ural Branch, Russian Academy of Sciences, Sofia Kovalevskaya Str. 22, Yekaterinburg 620990, Russia) ,  Ivanichkina Ksenia A. (Institute of High-Temperature Electrochemistry, Ural Branch, Russian Academy of Sciences, Sofia Kovalevskaya Str. 22, Yekaterinburg 620990, Russia)
資料名： Physics Letters. A  (Physics Letters. A)
巻： 381  号： 36  ページ： 3079-3083  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0600B  ISSN： 0375-9601  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 分子動力学を用いた電場中での多孔質膜を通過するリチウムイオンドリフトを研究した。モノ-,ビ-,トリ-,およびヘキサ空格子点は二層シリセンの細孔が存在した。イオンは複雑な経路を有している。単一空孔を持つ膜を克服するイオンの平均時間であるヘキサ空孔を有する膜のそれより三倍以上高かった。平坦シリセンチャネルを通過するリチウムイオンの通過はシリセンの粗さの増加,Si原子の移動度の増加,静電力作用によるσz 応力成分の顕著な増加を引き起こす。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 移動度 ,  分子動力学 ,  細孔 ,  電場 ,  *イオン ,  *相互作用 ,  ケイ素
準シソーラス用語： 静電気力 ,  二層 ,  多孔質膜 ,  *リチウムイオン ,  *シリセン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 欠陥 ,  リチウムイオン ,  膜 ,  分子動力学 ,  シリセン ,  ストレス

分類 (2件)： 気体放電  (BJ03020T) ,  プラズマ一般  (BJ02010B)

タイトルに関連する用語 (4件)： 欠損 ,  シリセン ,  リチウムイオン ,  相互作用