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J-GLOBAL ID：201702287721929684   整理番号：17A1625548

高温におけるN_2大気におけるMoSi_2粉末の反応挙動【Powered by NICT】

The reaction behavior of MoSi₂ powder in N₂ atmosphere at high temperatures

著者 (3件)： Wu Yue-Dong (State Key Laboratory of Advanced Metallurgy, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China) ,  Zhang Guo-Hua (State Key Laboratory of Advanced Metallurgy, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China) ,  Chou Kuo-Chih (State Key Laboratory of Advanced Metallurgy, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 43  号： 18  ページ： 16525-16530  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 1573Kと1873Kの間でN_2雰囲気におけるMoSi_2粉末の反応挙動を詳細に調べた。その相転移と形態学的変化をX線回折と電界放出型走査電子顕微鏡によりそれぞれ調べた。結果はMoSi_2はN_2雰囲気下でMo_5Si_3とSi_3N_4に変換できることを示した。多くの亀裂はMoSi_2のニトロ化は非常に容易とした粒子の表面上に形成した。さらに,先端での小球とSi_3N_4ナノロッドの多数が形成され,ナノロッドの形成は,蒸気-液体-固体機構に従うと結論した。最後に,ニトロ化反応に及ぼすMoSi_2の高温予備酸化処理の効果も研究した。高密度SiO_2層はニトロ化速度を遅延させる大きく高温予備酸化処理によって形成されたことが分かった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： ニトロ化 ,  X線回折 ,  *高温 ,  亀裂 ,  相転移 ,  ナノロッド ,  モルフォロジー ,  *粉体
準シソーラス用語： 二層 ,  高密度 ,  酸化処理 ,  電界放出型走査電子顕微鏡 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： MoSi_2 ,  Nitration ,  予備酸化 ,  Si_3N_4

分類 (2件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 大気 ,  粉末 ,  挙動