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J-GLOBAL ID：201702288083984484   整理番号：17A1737949

共用施設によるナノ・マイクロ加工技術とイノベーション 極高真空ガス分析技術-極限真空への挑戦-

著者 (3件)： 栗巣普揮 (山口大 大学院創成科学研究科) ,  木村隆幸 ,  山本節夫 (山口大 大学院創成科学研究科)
資料名： 金属  (Materials Science & Technology)
巻： 87  号： 12  ページ： 1003-1008  発行年： 2017年12月01日 
JST資料番号： F0157A  ISSN： 0368-6337  CODEN： KNZKA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ナノ・マイクロデバイスを製造する薄膜形成装置や描画・露光装置などの真空装置では,10^-7Paの到達圧力が必要である。デバイスの微細化や超薄膜化と共に,さらなる高度化(超・極高真空化や真空の質の向上)が求められている。山口大学では,真空材料から放出される微量ガスを検出できる極高真空ガス放出速度測定装置と稼働状態のデバイスから放出されるガスを分析するダイナミック昇温脱離ガス分析装置を駆使して支援を行っている。本稿では,極高真空ガス放出速度測定装置およびダイナミック昇温脱離ガス分析装置を紹介した。1)超高真空ガス放出速度測定装置:測定原理,装置構成,装置性能(真空計の校正,極高真空の達成,ガス放出速度測定),2)ダイナミック昇温脱離ガス分析装置:装置構成と仕様,測定例。

シソーラス用語： 固体素子 ,  マイクロマシニング ,  ガス分析 ,  *ガス分析計 ,  *極高真空 ,  ガス放出 ,  計測器 ,  昇温脱離 ,  動的解析 ,  原理 ,  真空計 ,  真空度 ,  キャリブレーション ,  微細加工 ,  真空装置 ,  真空材料 ,  ガスクロマトグラフィー ,  GC-MS分析 ,  実時間処理 ,  施設 ,  大学
準シソーラス用語： *マイクロ・ナノデバイス ,  微量ガス ,  動的分析 ,  測定原理 ,  装置構成 ,  校正【計測】 ,  事例紹介 ,  排気特性 ,  ガスクロマトグラフィー-質量分析 ,  リアルタイム計測 ,  共用施設

分類 (2件)： 固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G) ,  分析機器  (CC02020S)

タイトルに関連する用語 (7件)： 共用施設 ,  マイクロ加工 ,  イノベーション ,  極高真空 ,  ガス分析 ,  極限 ,  真空