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J-GLOBAL ID:201702288157273996   整理番号:17A1771307

大面積ジブロック共重合体マスクの微調整のスパッタ法による高密度磁気ナノドットにおける磁化スイッチング【Powered by NICT】

Magnetization switching in high-density magnetic nanodots by a fine-tune sputtering process on a large-area diblock copolymer mask
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巻:号: 43  ページ: 16981-16992  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2323A  ISSN: 2040-3364  CODEN: NANOHL  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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極度に高密度の規則化磁気ナノドットアレイは,ナノテクノロジーの成長分野に特異な性質を提供する。従来のリソグラフィーのサイズ限界を克服するために,ジブロック共重合体自己集合により作製したメソ多孔質高分子テンプレート上に微調整されたスパッタリング蒸着プロセスは,均一で密に間隔ナノメートルスケール磁気ドットアレイを作製するために提案した。このプロセスは厚さ10および13nmの,大面積上の,スパッタNi_80Fe_20とCo薄膜をパターン化するためにうまく利用した。適切な視射角で注意深く調整スパッタエッチングは,高分子テンプレートの上に堆積した磁性材料を選択的に除去し,ナノドットアレイ(ドット直径約17nm)を製造した。形態研究と共に,スパッタエッチング時間の関数として室温での磁化反転の詳細な研究は機能性磁気的性質を示す長範囲規則化したアレイの合成を確認した。得られたナノドットアレイの磁気ヒステリシスループを,種々の温度で測定し,ドット間の双極子-双極子静磁気相互作用と磁気結晶異方性の効果の役割を調べるためにマイクロ磁気シミュレーションにより解釈した。測定と数値モデル化の結果の間の一致は機能的磁気要素の大面積ナノスケールアレイの設計における革新的プロセスとして提案した合成技術の使用を示した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 

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