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J-GLOBAL ID：201702288310390578   整理番号：17A1457645

Alの進化:ドーピングレベルの関数としてのZnO光学応答【Powered by NICT】

Evolution of Al:ZnO optical response as a function of doping level

著者 (4件)： Ochoa-Martinez Efrain (Universidad de Malaga, The Nanotech Unit, Departamento de Fisica Aplicada I, 29071 Malaga, Spain) ,  Navarrete-Astorga Elena (Universidad de Malaga, The Nanotech Unit, Departamento de Fisica Aplicada I, 29071 Malaga, Spain) ,  Ramos-Barrado Jose (Universidad de Malaga, The Nanotech Unit, Departamento de Fisica Aplicada I, 29071 Malaga, Spain) ,  Gabas Mercedes (Universidad de Malaga, The Nanotech Unit, Departamento de Fisica Aplicada I, 29071 Malaga, Spain)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 421  号： PB  ページ： 680-686  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ZnOとAlドープZnO薄膜層(<100nm)は石英およびSi基板上にRFマグネトロンスパッタリングにより堆積した。試料の構造(XRD),組成(SNMS),形態(SEM)および光学的/電気的(分光偏光解析)特性はドーパントレベル変化の影響を推定するために研究した。古典的Tanguy+Drude+Sellmeier項の組合せは,ZnOとAl:ZnOの誘電関数を解析した。Al含有量はより小さい結晶サイズ,バンドギャップシフトとこの遷移の広がりの屈折率増加の緩やかな減少をもたらすことが分かった。Drudeモデルから抽出された電気的パラメータは,アルミニウムドーピング効率の限界を示唆している。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 結晶 ,  薄膜 ,  X線回折 ,  *アルミニウム ,  屈折率 ,  石英 ,  *酸化亜鉛 ,  誘電関数
準シソーラス用語： Drudeモデル ,  分光偏光解析法 ,  RFマグネトロンスパッタリング ,  シリコンウエハ ,  *光応答 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： ZnO ,  Al:ZnO ,  Ellipsometry

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： Al ,  進化 ,  ドーピング ,  関数 ,  ZnO ,  光学応答