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J-GLOBAL ID：201702288594554721   整理番号：17A1781577

近赤外広帯域デバイス応用のためのGeO_2~-Bi_2O_3ガラスに及ぼす溶融条件とBi_2O_3濃度の影響【Powered by NICT】

Influence of the melting conditions and Bi₂O₃ concentration on GeO₂-Bi₂O₃ glasses for near-infrared broadband devices applications

著者 (3件)： Martins M. M. (Escola Polite ́cnica da Universidade de Sao Paulo, Sao Paulo, Caieiras, Brazil) ,  Kassab L. R. P. (Faculdade de Tecnologia de Sao Paulo, Sao Paulo, SP, Brazil) ,  Cacho V. D. D. (Faculdade de Tecnologia de Sao Paulo, Sao Paulo, SP, Brazil)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： SBMicro  ページ： 1-3  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化ビスマス(Bi_2O_3)を含むガラスは,ビスマスイオンに起因する1000から1600nmの広いバンド光ルミネセンスのため大きな注目する価値がある。異なるGeO_2~-Bi_2O_3ガラスの調製に及ぼす加工条件(るつぼ型,融解温度とBi_2O_3濃度)の影響を示した。ガラスの光学的性能に及ぼすこれらのパラメータの影響は,近赤外領域における近赤外広帯域デバイスを用いて応用時に考慮しなければならない。結果は62Bi_2O_3 38GeO_2(wt%)の出発組成のガラスは1200~1600nm領域に強いと広帯域ルミネセンスを必要とするデバイスとして使用される大きな可能性を有していることを示した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ガラス ,  *近赤外線 ,  酸化ビスマス ,  ルミネセンス ,  *広帯域 ,  融点 ,  光ルミネセンス ,  加工条件 ,  坩堝
準シソーラス用語： 近赤外領域 ,  ビスマスイオン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  赤外・遠赤外領域の分光法と分光計  (BD07042H)

タイトルに関連する用語 (5件)： 近赤外 ,  広帯域 ,  応用 ,  ガラス ,  溶融