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J-GLOBAL ID:201702289056306015   整理番号:17A1452646

マトリックス支援パルスレーザ蒸発:メソ多孔質炭素膜を設計するための新しいアプローチ【Powered by NICT】

Matrix-Assisted Pulsed Laser Evaporation: A novel approach to design mesoporous carbon films
著者 (8件):
資料名:
巻: 122  ページ: 484-495  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0270B  ISSN: 0008-6223  CODEN: CRBNA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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固体基板上に多孔質炭素膜の高速合成法を報告した。加工条件により調整した薄い炭素微細構造は,マトリックス支援パルスレーザ蒸発により初めて合成した。法は溶媒の種々の混合物中に溶解したフロログルシノール/グリオキシル酸有機前駆体から成る極低温ターゲットのパルスレーザ照射で構成されている。エキシマUV KrF*パルスレーザを固体対向集熱器に対するターゲットと固定化からの物質放出の真空チャンバー内で採用した。レーザエネルギーまたは標的溶媒を修飾することで,種々の架橋度を持つ百nmの薄いポリマ被覆は,わずか10分で室温で得られた。dymethylスルホキシド(DMSO)のような高沸点溶媒に対してもは必要でない乾燥または熱重合段階。熱処理後,Kr吸着により決定した705m~2g~( 1)まで多様なのナノ形態と表面積を示すメソ多孔質炭素膜を,種々の集熱器上に直接得た。フェノール樹脂の加工と組立機構を検討し,いくつかの方法で明らかになった二つの競合する機構,例えば,レーザ波長とそれに続く分子移動/相互作用の標的吸収は高品質膜の成長を考慮した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
セラミック・陶磁器の製造  ,  炭素とその化合物 

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