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J-GLOBAL ID：201702289780660566   整理番号：17A1374539

エリプソメトリ法によるSi基板表面の微粒子計測 インクジェット装置による粒子付着とエリプソメトリ計測

著者 (5件)： 鈴木雄也 (山梨大) ,  近藤英一 (山梨大) ,  浜田聡美 (荏原製作所) ,  嶋昇平 (荏原製作所) ,  檜山浩國 (荏原製作所)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2017  号： 秋季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.A23  発行年： 2017年09月05日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体製造過程において洗浄は重要なプロセスである。新規洗浄プロセス開発のためにはプロセスのみならず粒子量の評価手法の開発も重要である。そこで我々は実験室レベルでも簡単にサブnmの極薄表面層の構造を決定可能な分光エリプソメータに着目し,粒子検出への応用を期待した。本研究では,特に実験室における簡易な評価法での応用を目的とし,エリプソメトリ法による基板上ナノ粒子の検出を試み有用性を検討した。(著者抄録)

シソーラス用語： *偏光解析法 ,  ウエハ【IC】 ,  微粒子 ,  計測 ,  噴流 ,  洗浄 ,  *半導体プロセス

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  偏光測定と偏光計  (BD07050K)

タイトルに関連する用語 (5件)： エリプソメトリ ,  Si基板 ,  微粒子 ,  計測 ,  インクジェット装置