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J-GLOBAL ID:201702289943486973   整理番号:17A1159167

一段階浸漬法によるシリコン表面上の多孔質ポリ(メタクリル酸メチル)膜のグラフト化と特性【Powered by NICT】

Grafting and properties of a porous poly(methyl methacrylate) film on a silicon surface by a one-step dipping method
著者 (5件):
資料名:
巻: 134  号: 37  ページ: ROMBUNNO.44930  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0467A  ISSN: 0021-8995  CODEN: JAPNAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,新規な浸漬法によるSi表面上の多孔性ポリ(メタクリル酸メチル)(PMMA)膜を調製した。を10°Cでの単純なフラスコ中で酸性水溶液中へのSi基板を浸漬直接プロセスを行った。4 ニトロベンゼン ジアゾニウム テトラフルオロボラート(NBD)はSi表面で自発的に還元した。,NBDの還元中のアリールラジカルは,Si表面にグラフト化した。一方,アリールラジカルをメタクリル酸メチル(MMA)単量体の重合を開始し,溶液中で形成されたラジカル末端PMMA鎖はSi表面上にグラフト化した。水がMMAの貧溶媒であるため,グラフト化PMMA鎖は容易に一緒に凝集し,これは多孔性高分子膜をもたらした。膜の多孔性はグラフト時間とMMA濃度に依存した。さらに,多孔性PMMA膜の誘電率は比較的低く,その誘電損失係数は非常に小さかった。,その優れた誘電特性は多孔質膜は工業において多くの用途を持つことを可能にするはずである。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (4件):
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共重合  ,  ポリウレタン  ,  高分子固体のその他の性質  ,  高分子固体の物性一般 
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