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J-GLOBAL ID：201702290324261633   整理番号：17A1189260

水とシクロヘキサン分子の低磁場NMR緩和測定による炭素キセロゲルのメソ多孔質構造を探る【Powered by NICT】

Probing into the mesoporous structure of carbon xerogels via the low-field NMR relaxometry of water and cyclohexane molecules

著者 (5件)： Cadar Calin (Department of Physics and Chemistry, Technical University of Cluj-Napoca, RO-400114, Cluj-Napoca, Romania) ,  Cotet Cosmin (Department of Chemical Engineering, Faculty of Chemistry and Chemical Engineering, “Babes-Bolyai” University, Arany Janos 11, RO-400028 Cluj-Napoca, Romania) ,  Baia Lucian (Faculty of Physics & Institute of Interdisciplinary Research in Bio-Nano-Sciences, “Babes-Bolyai” University, M. Kogalniceanu 1, RO-400084 Cluj-Napoca, Romania) ,  Barbu-Tudoran Lucian (National Institute for Research and Development of Isotopic and Molecular Technologies, 67-103 Donath Street, 400293 Cluj-Napoca, Romania) ,  Ardelean Ioan (Department of Physics and Chemistry, Technical University of Cluj-Napoca, RO-400114, Cluj-Napoca, Romania)
資料名： Microporous and Mesoporous Materials  (Microporous and Mesoporous Materials)
巻： 251  ページ： 19-25  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0642C  ISSN： 1387-1811  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二種類のメソ多孔性炭素キセロゲルの多孔質構造内の部分的に飽和した条件下で,水及びシクロヘキサン分子の液体形態は低磁場核磁気共鳴(NMR)緩和測定を用いて調べた。二キセロゲルは,同じ条件のもとで,しかし異なるレゾルシノール触媒比で調製した。二つの方法を本研究で使用した:横緩和測定のためのよく知られているCarr-Purcell-Meiboom-Gill(CPMG)パルス配列と縦緩和分散測定のための高速磁場サイクリング(FFC)緩和測定法。は水分子と比較して細孔表面とシクロヘキサン分子の強い相互作用であることが分かった。,水充填されたカーボンキセロゲルの場合,分布は不均一であったこれは,より低い充填度のための細孔表面上でのシクロヘキサン分子の均一な被覆をもたらした。細孔表面上でのシクロヘキサン分子の強い吸着により,窒素吸着データにより予測された炭素キセロゲルのミクロ細孔を同定することができた。NMR緩和データは,レゾルシノールへの触媒比を増加させることによって,メソ細孔のサイズが増加することを明確に示した。さらに,シクロヘキサンの炭素キセロゲルの増強された吸着親和性は,この種の材料は,水から類似の有機汚染物質の除去のための吸着剤として使用できることを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *炭素 ,  スピン-格子緩和 ,  吸着剤 ,  細孔 ,  *キセロゲル ,  吸着 ,  形態 ,  触媒 ,  親和性 ,  NMR【磁気共鳴】 ,  水分子 ,  多価フェノール ,  シクロアルカン
準シソーラス用語： 窒素吸着 ,  *緩和時間測定法 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 低磁場NMR ,  高速磁場サイクリング ,  多孔質媒体 ,  炭素キセロゲル ,  部分飽和

分類 (5件)： 吸着剤  (YB03000W) ,  不均一系触媒反応  (CB06100E) ,  炭素とその化合物  (YB02060D) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  合成鉱物  (CD01040K)

物質索引 (2件)： レゾルシノール ,  シクロヘキサン

タイトルに関連する用語 (8件)： 水 ,  シクロヘキサン ,  分子 ,  低磁場 ,  NMR緩和 ,  炭素 ,  キセロゲル ,  メソ多孔質