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J-GLOBAL ID:201702290523535943   整理番号:17A0900356

純チタンの初期酸化に対するケイ素含有膜の影響

Influence of a silicon-bearing film on the early stage oxidation of pure titanium
著者 (4件):
資料名:
巻: 52  号: 16  ページ: 9884-9894  発行年: 2017年08月 
JST資料番号: B0722A  ISSN: 0022-2461  CODEN: JMTSAS  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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比較的単純と考えられる酸化初期のチタン酸化皮膜の特性評価を,純ケイ素被覆の影響に注目して行った。純チタン上にはコンパクトで柱状の外側皮膜と,多孔質で等軸の内側皮膜から成る酸化物二重層が観察された。マーカーによる実験で酸素とチタンの両方の拡散がチタン酸化物の初期の成長に寄与していることが分かった。すなわち,Ti陽イオンは外向きに拡散して元の金属表面の外側に高密度の酸化皮膜を形成する。一方酸素陰イオンは内向きに拡散して多孔質の内側層を形成する。Si層をつけた純Tiでは外側酸化物層はSiなしと同様であるが,内側層は多孔性が低下している。このことによりSiが有害な内側酸化物層の成長を抑制することが分かった。
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