文献

J-GLOBAL ID：201702290661461048   整理番号：17A0605770

フッ化水素酸中の過酸化水素を用いた湿式精錬による冶金グレードのシリコンの精製

Hydrometallurgical Purification of Metallurgical Grade Silicon with Hydrogen Peroxide in Hydrofluoric Acid

著者 (7件)： LAI Huixian (Xiamen Univ., Xiamen, CHN) ,  HUANG Liuqing (Xiamen Univ., Xiamen, CHN) ,  XIONG Huaping (Xiamen Univ., Xiamen, CHN) ,  GAN Chuanhai (Xiamen Univ., Xiamen, CHN) ,  XING Pengfei (Northeastern Univ., Shenyang, CHN) ,  LI Jintang (Xiamen Univ., Xiamen, CHN) ,  LUO Xuetao (Xiamen Univ., Xiamen, CHN)
資料名： Industrial & Engineering Chemistry Research  (Industrial & Engineering Chemistry Research)
巻： 56  号： 1  ページ： 311-318  発行年： 2017年01月11日 
JST資料番号： C0385C  ISSN： 0888-5885  CODEN： IECRED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フッ化水素酸(HF)を用いた浸出による冶金グレードシリコン(MG-Si)の精製において,H₂O₂を酸化剤として添加する効果を研究した。金属不純物の抽出能力はHF濃度に依存しなかったが,H₂O₂で増加し,例えば1モル/LのHF中,55°C,15分で浸出すると,MG-Siの純度はH₂O₂の添加なしで99.74%だったが,添加により99.96%になり,反応時間を長くすると99.99%に達した。エッチングの効果をRaman分光と透過型電子顕微鏡観察で調べ,その機構を考察した。

シソーラス用語： *湿式製錬 ,  *ケイ素 ,  *純度 ,  *過酸化水素 ,  Raman分光法 ,  電子顕微鏡観察 ,  透過型電子顕微鏡 ,  エッチング ,  酸化剤 ,  温度依存性 ,  粒度
準シソーラス用語： フッ化水素酸 ,  透過型電子顕微鏡観察

分類 (1件)： その他の無機工業薬品,無機材料  (YB02090K)

タイトルに関連する用語 (7件)： フッ化水素酸 ,  過酸化水素 ,  精錬 ,  冶金 ,  グレード ,  シリコン ,  精製