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J-GLOBAL ID：201702290957857525   整理番号：17A0822195

サーマルディウェッティングで支援されたカルコゲナイド薄膜における微細構造形成

Microstructure formation in chalcogenide thin films assisted by thermal dewetting

著者 (3件)： DOUAUD Alexandre (Univ. Laval, QC, CAN) ,  MESSADDEQ Sandra Helena (Univ. Laval, QC, CAN) ,  MESSADDEQ Younes (Univ. Laval, QC, CAN)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 28  号： 10  ページ： 6989-6999  発行年： 2017年05月 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 自己集合または自己形成パターンの自発形成はディウェッティングというプロセスで行われる。ディウェッティングはメタルやポリマ薄膜では知られているが,ガラス状薄膜では行われていない。ガラス状のAg_x(As₂₀S₈₀)_100-xにサーマルディウェッティングを適用した。As₂₀S₈₀ガラスをメルトクエンチングで作り,Agとの同時蒸着でAg_x(As₂₀S₈₀)_100-x薄膜を作った。As₂₀S₈₀マトリクス中のAgはディウェッティングが起こりやすいように構造を再配列する。Ag_x(As₂₀S₈₀)_100-xのディウェッティングは組成とアニーリング時間に依存している。構造的観点からは,ディウェッティングした構造はAsS_3/2とAgS_3/2ピラミッドユニットの相分離で形成され,高温でのアニールで崩れて銀リッチ液滴を形成する。カルコゲナイド熱ディウェッティング法はマイクロレンズアレイを作る簡単な方法である。

シソーラス用語： *カルコゲン化物 ,  *薄膜 ,  *微細構造 ,  自己集合 ,  銀化合物 ,  ヒ素化合物 ,  硫化物 ,  焼なまし ,  アレイ ,  状態図 ,  Ramanスペクトル ,  画像 ,  生産方式
準シソーラス用語： SEM画像 ,  アニーリング ,  カルコゲニド ,  *ディウェッティング ,  マイクロレンズアレイ ,  液体急冷法 ,  三元系相図

分類 (2件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (4件)： 支援 ,  カルコゲナイド ,  薄膜 ,  微細構造