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J-GLOBAL ID：201702291259563949   整理番号：17A0498937

X線照射下でのプラズマ水素化ナノダイヤモンドにより誘起されたヒドロキシルラジカル生成

Hydroxyl radical production induced by plasma hydrogenated nanodiamonds under X-ray irradiation

著者 (7件)： Kurzyp Magdalena (CEA, LIST, Diamond Sensors Laboratory, F-91191 Gif-sur-Yvette, France. [e-mail] [e-mail]) ,  Girard Hugues A. ,  Cheref Yannis ,  Brun Emilie ,  Sicard-Roselli Cecile ,  Saada Samuel ,  Arnault Jean-Charles
資料名： Chemical Communications  (Chemical Communications)
巻： 53  号： 7  ページ： 1237-1240  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0376B  ISSN： 1359-7345  CODEN： CHCOFS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： X線照射下でのプラズマ水素化爆轟ナノダイヤモンド(H-ND)により誘起されたヒドロキシルラジカル(HO・)の過剰産生を始めて報告した。蛍光プローブとしてクマリン(COU)を用い,H-ND(6~100μg ml^-1)の存在下にHO・産生は水単独時に比較して40%の顕著な増加を示した。この効果は水素化ナノダイヤモンドの負電子親和性に関連し,X線照射下の水中における電子放出を介したH-NDの反応性酸素種生産能力を示した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST

シソーラス用語： *ナノ結晶 ,  *芳香族縮合化合物 ,  ラクトン ,  プラズマ化学反応 ,  *ヒドロキシルラジカル ,  *X線照射 ,  反応機構 ,  活性酸素 ,  放射線分解 ,  電子親和力 ,  フェノール類
準シソーラス用語： *ナノダイヤモンド ,  蛍光プローブ ,  反応性酸素種 ,  負電子親和性

分類 (3件)： 放射線化学反応  (CB09020M) ,  無機物質中のラジカルの放射化学的分析  (CC06023T) ,  特殊加工  (QC04000Y)

物質索引 (1件)： 7-ヒドロキシクマリン

タイトルに関連する用語 (6件)： X線照射 ,  プラズマ ,  水素化 ,  ナノダイヤモンド ,  誘起 ,  ヒドロキシルラジカル