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J-GLOBAL ID:201702291416832949   整理番号:17A0443525

層状両親媒性ゲルの形成モデル化【Powered by NICT】

Modeling the formation of layered, amphiphilic gels
著者 (6件):
資料名:
巻: 111  ページ: 214-221  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0472B  ISSN: 0032-3861  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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親水性および疎水性領域の両方を含む層状ゲルの効率的な定式化は,重要な官能基の新しい材料につながる可能性がある。これら材料の作製を容易にするために,ゲルの間のトレードオフがある,二層積層可能なゲルの生成をモデル化するために散逸粒子動力学(DPD)シミュレーションを行い,それぞれの溶媒は非混和性である。ゲルの底部層が最初に形成され,新しい開始剤,単量体と架橋剤の溶液はこの最初の層の上に導入した。その後これら成分は,リビング重合を受ける第二ゲル層を形成した。二層状物質を形成するフリーラジカル重合(FRP)と制御/リビング原子移動ラジカル重合(ATRP)を用いて全ての可能な組合せを調べた。低いゲルは,ATRPにより形成される場合,システムは,積層ゲル層を形成する。が,低ゲルは,FRPにより形成されるならば,ゲルは,相互接続された層を形成しなかった。ATRPにより成長させた低いゲルにおける活性ラジカル鎖末端の存在は上部ゲル層との共有結合の形成を可能にする。一方,より低いFRPゲル中の活性ラジカルの欠如は,鋭い界面領域をもたらし,二層を結ぶ無視できるゲル間結合を有する。シミュレーションによると,ゲル層の間の界面のナノスケールの性質への洞察を提供し,機械的にロバストな,「積層可能な」両親媒性ゲルを形成するための指針が得られた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (4件):
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高分子固体の構造と形態学  ,  その他の高分子の反応  ,  重合反応一般  ,  高分子と低分子との反応 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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