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J-GLOBAL ID：201702291625208933   整理番号：17A0446025

厚いセラミックコーティングを作製するためのインクジェット印刷プロセスの最適化【Powered by NICT】

Optimizing inkjet printing process to fabricate thick ceramic coatings

著者 (3件)： Rahul S.H. (Non Ferrous Materials Technology Development Centre (NFTDC), P.O. Kanchanbagh, Hyderabad 500058, India) ,  Balasubramanian K. (Non Ferrous Materials Technology Development Centre (NFTDC), P.O. Kanchanbagh, Hyderabad 500058, India) ,  Venkatesh Sriram (Department of Mechanical Engineering, University College of Engineering, Osmania University, Hyderabad 500007, India)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 43  号： 5  ページ： 4513-4519  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,ガラス基板上の厚いセラミック被覆の製造のために最適パラメータを決定するためにインクジェット印刷プロセスに田口最適化とA NOVA技術の使用を記述した。安定ナノ粒子懸濁液は,適切な量の結合剤と懸濁溶媒の前駆体粉末の高エネルギーミリングにより合成した。ほとんどの場合,インクジェット印刷プロセスは,微細で薄い層(<10μm)を開発するために使用されている。しかし,IJPプロセスパラメータのみを変化させ,多層堆積せずに厚いセラミック膜を作製し,それ故,被覆基板のインク合成と処理時間の努力を低減することである。IJPの三パラメータをプロセスパラメータを変化させて印刷層厚さを正確に予測するの使用されたモデルを開発するために変化させた。A NOVA技術は,インク中のナノ粒子濃度と組み合わせた開放時間間隔は厚い被覆をもたらす可能性があることを示した。基板加熱の影響下での希釈された懸濁液インク中の溶媒のより高い体積%は不規則な表面被覆を有するコーヒー染み効果に大きく寄与した。しかし,希釈したインクのナノ粒子の濃度を高める塗膜欠陥の同時制御による層の厚さの大幅な改善をもたらした。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： セラミック膜 ,  ナノ粒子 ,  *印刷 ,  *最適化 ,  塗膜欠陥 ,  被覆 ,  懸濁液 ,  プロセスパラメータ ,  *インク ,  *セラミック被覆 ,  表面被覆 ,  加工時間 ,  *インクジェット印刷 ,  コーヒー
準シソーラス用語： ガラス基板 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： ZrO_2(D) ,  懸濁液(A) ,  光学顕微鏡法(B) ,  表面(B) ,  膜(A) ,  田口法

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (5件)： セラミックコーティング ,  作製 ,  インクジェット印刷 ,  プロセス ,  最適化