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J-GLOBAL ID：201702291680187513   整理番号：17A1056802

LuNiBiバルクとナノ層のトポロジー相と光学的性質【Powered by NICT】

Topological phase and optical properties of LuNiBi bulk and nano-layer

著者 (2件)： Narimani Mitra (Department of Physics, Faculty of Sciences, University of Isfahan, Isfahan, Iran) ,  Nourbakhsh Zahra (Department of Physics, Faculty of Sciences, University of Isfahan, Isfahan, Iran)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 634  ページ： 112-120  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： LuNiBiバルクとナノ層のトポロジカル相と光学的性質を調べた。自己無撞着計算は,スピン-軌道結合の存在,一般化勾配近似,局所密度近似,Engle Vosco一般化勾配近似と修正BeckeとJohnsonのポテンシャルを用いた密度汎関数理論に基づいて行った。LuNiBi化合物のバンド,エネルギーバンドギャップと光学的性質に及ぼす静水圧と一軸性圧力の効果は異なるアプローチ内で研究した。表面状態のトポロジカル相とLuNiBiナノ層の光学的性質を調べた。結果はLuNiBiバルクとナノ層のトポロジカル相とエネルギーギャップは圧力と型交換-相関ポテンシャルのに敏感であることを示した。入射電磁波偏光にLuNiBiナノ層の異方性応答,ナノ層表面に平行および垂直である。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： エネルギーギャップ ,  バンドギャップ ,  静水圧 ,  異方性 ,  一軸 ,  *光学的性質 ,  密度汎関数法 ,  *ナノシート ,  *トポロジカル相
準シソーラス用語： 局所密度近似 ,  一般化勾配近似 ,  L-S結合 ,  *トポロジー相 ,  *ナノ薄膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 密度汎関数理論 ,  ルテチウムビスマスニッケル ,  バルク ,  ナノ層 ,  トポロジカル相 ,  光学的性質

分類 (2件)： 光物性一般  (BM08010A) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (4件)： バルク ,  ナノ層 ,  トポロジー相 ,  光学的性質