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J-GLOBAL ID：201702291693482161   整理番号：17A1963738

パルスレーザ蒸着を用いて堆積させたヒドロキシアパタイト薄膜の表面形態と化学組成に及ぼすレーザフルエンスと雰囲気ガス圧力の影響【Powered by NICT】

Effect of laser fluence and ambient gas pressure on surface morphology and chemical composition of hydroxyapatite thin films deposited using pulsed laser deposition

著者 (6件)： Nishikawa Hiroaki (Faculty of Biology-Oriented Science and Technology, Kindai University, 930 Nishi-Mitani, Kinokawa, Wakayama, 649-6493, Japan) ,  Hasegawa Tsukasa (Graduate School of Biology-Oriented Science and Technology, Kindai University, 930 Nishi-Mitani, Kinokawa, Wakayama, 649-6493, Japan) ,  Miyake Akiko (Department of Removable Prosthodontics and Occlusion, Osaka Dental University, 8-1 Kuzuha-Hanazano, Hirakata, Osaka, 573-1121, Japan) ,  Tashiro Yuichiro (Department of Removable Prosthodontics and Occlusion, Osaka Dental University, 8-1 Kuzuha-Hanazano, Hirakata, Osaka, 573-1121, Japan) ,  Komasa Satoshi (Department of Removable Prosthodontics and Occlusion, Osaka Dental University, 8-1 Kuzuha-Hanazano, Hirakata, Osaka, 573-1121, Japan) ,  Hashimoto Yoshiya (Department of Biomaterials, Osaka Dental University, 8-1 Kuzuha-Hanazono, Hirakata, Osaka, 573-1121, Japan)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 427  号： PB  ページ： 458-463  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルスレーザ蒸着によるそれらの形成中のレーザフルエンスと周囲ガス圧にヒドロキシアパタイト(HA)薄膜の表面形態と化学組成の依存性は,HA膜形成に及ぼすアブレートされた化学種と雰囲気ガス分子間の物理的および化学的相互作用の影響を調べるために,第一段階として研究した。より高いフルエンスは,HA薄膜の表面上の大きな突起の数を減少させることができることが分かった。しかし,フルエンス高すぎるは化学量論値からのリン欠乏を引き起こし,特に低い雰囲気ガス圧の1例。も低いフルエンスに対して,アブレートされた化学種の原子種は雰囲気ガス分子との衝突過程により散乱された容易にしたことが分かった。これはアブレートされた化学種とより高い周囲ガス圧の低い速度,より短い平均自由行程を誘導するが原因であった。添加では,これらの衝突過程は,吸着,移動,および化学反応により基板上にアブレートされた化学種の再蒸発に重要な役割を果たした。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 化学種 ,  化学反応 ,  平均自由行程 ,  *パルスレーザ蒸着 ,  *化学組成 ,  *フルエンス ,  化学量論 ,  吸着 ,  フラッシュ蒸発 ,  *薄膜 ,  *ヒドロキシアパタイト
準シソーラス用語： *ガス圧 ,  *雰囲気ガス ,  *レーザフルエンス ,  *表面形態 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： ヒドロキシアパタイト ,  パルスレーザ蒸着 ,  レーザフルエンス ,  周囲ガス圧 ,  表面形態 ,  Ca/P比

分類 (2件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (9件)： パルスレーザ蒸着 ,  堆積 ,  ヒドロキシアパタイト ,  薄膜 ,  表面形態 ,  化学組成 ,  レーザフルエンス ,  雰囲気 ,  ガス圧力