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J-GLOBAL ID：201702291753871528   整理番号：17A0496537

スプレイ熱分解デポジションで製作したSnS₂:Ag薄膜の構造,光学,電気的性質に与えるAg濃度の影響

Influence of Ag concentration on the structure, optical and electrical properties of SnS₂:Ag thin films prepared by spray pyrolysis deposition

著者 (2件)： FADAVIESLAM M. R. (Damghan Univ., Damghan, IRN) ,  KAZEMI A. (Damghan Univ., Damghan, IRN)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 28  号： 5  ページ： 3970-3977  発行年： 2017年03月 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スプレイ熱分解で製作した硫化スズの構造,光学,電気的性質に与えるAgドーピングの影響を,XRD,SEM,UV-Vis分光,Hall効果,光敏感性測定を使って調べた。SnS₂:AgのAg濃度(Ag/Sn)は0,1,2,3,4%である。(001)面がSnS₂の優先配向であり,ピーク強度はAg濃度の増加で増加傾向を持っている。薄膜の粒状は球形で,ドーピング濃度が1から4%に増えると単結晶グレインは14.68から6.31nmに減少し,光学バンドギャップは2.75から2.62eVに,キャリヤ濃度は3.11×10¹⁷cm^-3から2.58×10¹⁷cm^-3Hall移動度は1.81から0.13cm²/Vに減少した。高濃度で成長したフィルムはキャリヤ濃度が低く高比抵抗であり,光敏感性が高い。

シソーラス用語： スズ化合物 ,  硫化物 ,  熱分解 ,  半導体薄膜 ,  構造特性 ,  *光学的性質 ,  *電気的性質 ,  *銀 ,  光学ギャップ ,  キャリア密度 ,  Hall移動度 ,  X線回折 ,  走査電子顕微鏡 ,  吸光分光分析 ,  Hall効果 ,  ドーピング ,  画像 ,  吸収係数 ,  透過率
準シソーラス用語： SEM【顕微鏡】 ,  SEM画像 ,  UV-Vis分光光度法 ,  XRD ,  キャリア濃度 ,  スプレー熱分解 ,  光学バンドギャップ ,  *硫化スズ

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (7件)： スプレイ熱分解 ,  ポジション ,  製作 ,  Ag ,  薄膜 ,  光学 ,  電気的性質