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J-GLOBAL ID：201702291865963057   整理番号：17A1608226

ナノ結晶チタン酸ジルコニウム薄膜の基板温度依存性

Substrate temperature-dependent physical properties of nanocrystalline zirconium titanate thin films

著者 (4件)： RANI D. Jhansi (Sri Krishnadevaraya Univ., AP, IND) ,  KUMAR A. Guru Sampath (Sri Krishnadevaraya Univ., AP, IND) ,  KUMAR A. Guru Sampath (Malla Reddy Engineering Coll. (A), Telangana, IND) ,  RAO T. Subba (Sri Krishnadevaraya Univ., AP, IND)
資料名： Journal of Coatings Technology and Research  (Journal of Coatings Technology and Research)
巻： 14  号： 5  ページ： 971-980  発行年： 2017年09月 
JST資料番号： H0021C  ISSN： 1547-0091  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ZrO₂,TiO₂,およびZrTiO₃のような多くの線状誘電体は,リーク電流の減少によるゲート誘電体の潜在的な候補として作用するが,それらの大部分は熱的に安定ではないが,ジルコニウムチタン酸塩(ZT)はマイクロ波領域で良好な熱安定性,高い温度係数および高い品質係数を有する。しかし,ZT薄膜のDCスパッタリングによる成膜に関する研究は,未だほとんど報告されていない。そこで本研究では,最適成膜条件を見出すため,直流マグネトロン反応性スパッタリングによって,高真空条件下,室温~300°Cの異なる基板温度で,ガラス基板上にナノ結晶チタン酸ジルコニウム薄膜を堆積した。そして,基板温度の関数として膜の物理的特性を特徴づけた。その結果,1)SEM画像は,基板に垂直な高密度の柱状構造を有する150~250°Cの結晶化度の改善を明らかにした。さらに高い温度では,膜の特性が劣化した。2)250°Cで堆積された膜では,高い光透過率91%および高い充填密度96%を観察した。などの知見を得た。

シソーラス用語： *ジルコニウム化合物 ,  *チタン酸塩 ,  *薄膜 ,  *ナノ結晶 ,  *誘電体 ,  熱安定性 ,  温度係数 ,  マイクロ波 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  基板温度 ,  温度依存性 ,  結晶度 ,  構造特性 ,  透過率 ,  密度 ,  物理的性質 ,  最適化 ,  *反応性スパッタリング ,  X線回折分析 ,  FWHM ,  格子歪 ,  表面粗さ ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  電気的性質
準シソーラス用語： *チタン酸ジルコニウム ,  光透過率 ,  充填密度 ,  直流マグネトロンスパッタリング ,  品質係数

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： ナノ結晶 ,  チタン酸ジルコニウム ,  薄膜 ,  温度依存性