文献
J-GLOBAL ID:201702291969894373   整理番号:17A0697162

SiとGe結晶における置換型及び格子間型CとSn原子の安定な配置の密度汎関数理論研究【Powered by NICT】

Density functional theory study of stable configurations of substitutional and interstitial C and Sn atoms in Si and Ge crystals
著者 (2件):
資料名:
巻: 463  ページ: 110-115  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0942A  ISSN: 0022-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
環境に良いとSi材料との親和性を持っているので,IV族半導体化合物,例えば,置換型C(C_s)および/またはSn(Sn_s)原子(モノドーピングと共ドーピング)を含むSiとGe数%の含有量は,太陽電池への応用のため注目を集めている。本研究では,密度汎関数理論計算によって格子間C(C_i)原子の生成に焦点を当てたSi(Ge)結晶中のCおよび/またはSn原子の安定な配置を評価した。神山ら(2016)によって提案されたHakoniwa法は全C原子にC_iの熱平衡比を得るために64原子スーパーセルに適用した。解析の結果は4倍。最初に,単離したC_s原子はSi及びGe結晶における単離したC_i原子よりも安定であり,GeよりSi中の安定であった。単離Sn_s原子はSn_iもより安定であるが,SiよりもGeにおける安定であった。第二に,均一に分布したC原子の濃度は約3%であるときC_i原子は450°Cでの全C原子に7.7%の比率でGe結晶中の[001]配向C_i C_s対で形成された。第三に,SiにおけるC_iとC_sの形成エネルギーの差は,一様に分布したC原子の濃度の増加で約0.3eVに減少し6%に達した。第四,C及びSnの共ドーピングはSiとGe結晶におけるC_i原子の形成を抑制する。ここで得られた結果は,太陽電池応用のためのSiおよびGeにおけるCおよび/またはSnの可能な原子配置の予測に有用である。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体の結晶成長 

前のページに戻る