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J-GLOBAL ID：201702292115595140   整理番号：17A1718568

正常およびoblige Dイオン照射下でのFe-Wモデル系の浸食【Powered by NICT】

Erosion of Fe-W model system under normal and oblige D ion irradiation

著者 (7件)： Berger Bernhard M. (Institute of Applied Physics, TU Wien, Fusion@OEAW, Wiedner Hauptstr. 8-10, 1040 Vienna, Austria) ,  Stadlmayr Reinhard (Institute of Applied Physics, TU Wien, Fusion@OEAW, Wiedner Hauptstr. 8-10, 1040 Vienna, Austria) ,  Bloch Dominic (Institute of Applied Physics, TU Wien, Fusion@OEAW, Wiedner Hauptstr. 8-10, 1040 Vienna, Austria) ,  Gruber Elisabeth (Institute of Applied Physics, TU Wien, Fusion@OEAW, Wiedner Hauptstr. 8-10, 1040 Vienna, Austria) ,  Sugiyama Kazuyoshi (Max-Planck-Institut fuer Plasmaphysik, Boltzmannstr. 2, 85748 Garching, Germany) ,  Schwarz-Selinger Thomas (Max-Planck-Institut fuer Plasmaphysik, Boltzmannstr. 2, 85748 Garching, Germany) ,  Aumayr Friedrich (Institute of Applied Physics, TU Wien, Fusion@OEAW, Wiedner Hauptstr. 8-10, 1040 Vienna, Austria)
資料名： Nuclear Materials and Energy  (Nuclear Materials and Energy)
巻： 12  ページ： 468-471  発行年： 2017年 
JST資料番号： W3044A  ISSN： 2352-1791  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 250eV重水素(D)照射による鉄-タングステン(Fe W)モデル膜(at%W1.5)の動的浸食挙動を明確に定義された実験室条件下で研究した。三つの異なる衝突角度(0°,45°および60°表面法線に対して)では侵食収率は高感度水晶微量天秤法(QCM)を用いて入射Dフルエンスの関数としてモニタした。さらにフルエンス増加と共にFe-W膜トポグラフィーと粗さの発展を,原子間力顕微鏡(A FM)を用いて観察した。Fe-Wの質量除去速度は低入射フルエンスで純粋なFe膜の値と同等であることが分かったがDフルエンスの増加と共に急速に減少した。これは優先的Feスパッタリングによる表面で実質的なW富化の以前の観察結果と一致した。垂直入射と比較して,物質除去速度の低下は,最初により多くの斜め角照射で顕著であるが,その違いはフルエンス>210~23D/m~2で消滅した。高分解能A FM像は,連続したイオン照射はナノドットまたはナノリップルの顕著な表面粗化と(イオン衝撃角に依存して)形成をもたらすことを明らかにした。これはFeの優先的スパッタリングによる表面でのW濃縮は増加するDフルエンスと浸食における観察された減少の原因となる排他的ではないことを示している。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 原子間力顕微鏡 ,  高感度 ,  フルエンス ,  *鉄 ,  高分解能 ,  *イオン照射 ,  イオン衝突 ,  高速度 ,  *浸食 ,  *モデル ,  スパッタリング
準シソーラス用語： 粗化 ,  ナノリップル ,  ナノドット ,  除去速度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： プラズマ壁相互作用 ,  スパッタリング ,  侵食 ,  鉄タングステン ,  リップル形成

分類 (2件)： 顕微鏡法  (BK01040E) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (4件)： イオン照射 ,  Fe ,  モデル ,  浸食