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J-GLOBAL ID:201702292216120327   整理番号:17A0191138

窒化ケイ素上の溶液ベースの光パターニングされた金膜形成

Solution-Based Photo-Patterned Gold Film Formation on Silicon Nitride
著者 (5件):
資料名:
巻:号: 51  ページ: 34964-34969  発行年: 2016年12月28日 
JST資料番号: W2329A  ISSN: 1944-8244  CODEN: AAMICK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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溶液ベースの方法を開発して,ケイ素リッチSiNx薄膜上に空間的にパターニングされた金膜を形成した。このアプローチは無電解メッキの利点を利用している。空間選択性を,超音波励起や他の機械的破壊操作を伴うことなく達成した。SiNxへの有機単分子層の光化学ヒドロシリル化結合は柔軟で,特に空間パターニングを用いたSiNxの表面官能化への経路に適する。テンプレート単分子層は,仮想のSiNxを保護する永久的なまたは除去可能な被膜として作用する。この単分子層の表面官能基を容易に調節する能力は,単一パターニングされた金属膜形成アプローチの展望を大きく拡張する。
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分類 (1件):
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金属の結晶成長 
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