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J-GLOBAL ID：201702295031570519   整理番号：17A1475239

清浄なAl(111)上の塩素吸着に関する第一原理研究

First-Principles Study of Chlorine Adsorption on Clean Al(111)

著者 (2件)： Yamashita Jun (Yazaki Research and Technology Center) ,  Nunomura Norio (Information Technology Center, University of Toyama)
資料名： Materials Transactions  (Materials Transactions)
巻： 58  号： 10  ページ： 1356-1363(J-STAGE)  発行年： 2017年 
JST資料番号： G0668A  ISSN： 1345-9678  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 密度汎関数理論モデルを用いて,1/4,1/3,1/2,3/4および1MLの塩素被覆率に対するスーパーセル法内のAl(111)表面に吸着された塩素原子の構造,熱力学的および電子的性質を調べた。最も大きい結合長さを3/4ML被覆率でのatop,hcp,およびfcc混合構造について観察した。吸着自由エネルギーの分析は,3/4MLの塩素被覆率が最も広い範囲の塩素化学ポテンシャルにわたって最も熱力学的に安定であり,1MLの被覆率が熱力学的に不安定であることを示している。電子電荷密度分布,吸着によって誘起される仕事関数の変化,および対応する静電双極子モーメントも計算する。atopサイト吸着は電荷移動を誘起し,低被覆率のための双極子構造の形成および低被覆率のため双極子構造形成を示し,電荷移動は被覆率の増加と共に減少することを示している。投影された状態の密度を用いて表面結合を調べ,アルミニウムと塩素の3p軌道はAl-Cl結合形成において重要であることを示している。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *吸着 ,  *アルミニウム ,  *塩素 ,  第一原理 ,  密度汎関数法 ,  被覆率 ,  自由エネルギー ,  HCP金属 ,  FCC金属 ,  化学ポテンシャル ,  電荷分布 ,  密度 ,  双極子モーメント ,  仕事関数 ,  腐食
準シソーラス用語： 電荷密度

著者キーワード (4件)： density functional theory ,  halogen adsorption ,  corrosion ,  electrochemical structure

分類 (2件)： 吸着,イオン交換  (XD02060I) ,  腐食  (WB03030B)

引用文献 (53件)：

• 1) E. McCafferty: Introduction to Corrosion Science Springer New York, 2010.
• 2) G.S. Frankel: J. Electrochem. Soc. 145 (1998) 2186-2198. 10.1149/1.1838615
• 3) Z. Szklarska-Smialowska: Corros. Sci. 41 (1999) 1743-1767. 10.1016/S0010-938X(99)00012-8
• 4) M.C. Reboul, T.J. Warner, H. Mayer and B. Barouk: Corros. Rev. 15 (2011) 471-496.
• 5) E. McCafferty: Corros. Sci. 45 (2003) 1421-1438. 10.1016/S0010-938X(02)00231-7

タイトルに関連する用語 (5件)： Al ,  塩素 ,  吸着 ,  第一原理 ,  研究