特許
J-GLOBAL ID:201703000053417009
高放射率金属箔
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-160348
公開番号(公開出願番号):特開2014-019914
特許番号:特許第6045235号
出願日: 2012年07月19日
公開日(公表日): 2014年02月03日
請求項(抜粋):
【請求項1】少なくとも基体金属箔の一方の面にコバルト又はコバルト合金微粒子又はその集合体を1.5g/m2以上付着させた一次粒子層を設け、次いでその上にNi、Ni-P、Co-Pのいずれかの合金被覆層を設けた、前記一次粒子層のコバルト又はコバルト合金微粒子と前記被覆層のNi、Ni-P、Co-Pの合金被覆層の粒子径が0.1〜2μmの微粒子粗化面を持ち、前記微粒子粗化面の放射率が0.40以上であることを特徴とする放熱基板用金属箔。
IPC (3件):
C25D 7/00 ( 200 6.01)
, C25D 7/06 ( 200 6.01)
, H05K 1/05 ( 200 6.01)
FI (3件):
C25D 7/00 G
, C25D 7/06 Z
, H05K 1/05 B
引用特許:
審査官引用 (3件)
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印刷回路用銅箔及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-332219
出願人:日鉱グールド・フォイル株式会社
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印刷回路用銅箔及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-058225
出願人:日鉱グールド・フォイル株式会社
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処理銅箔
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-045065
出願人:福田金属箔粉工業株式会社
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