特許

J-GLOBAL ID：201703000224333968

インプリント装置及び物品の製造方法

発明者： 成岡 晋太郎
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  大塚 康弘 ,  高柳 司郎 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-037998
公開番号（公開出願番号）：特開2017-157635
出願日： 2016年02月29日
公開日（公表日）： 2017年09月07日
要約：

【課題】モールドへのパーティクルの付着を低減するのに有利なインプリント装置を提供する。【解決手段】基板上のインプリント材にモールドを用いてパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、前記モールドの周囲に配置され、前記モールドと前記基板との間の第1空間へ気体を供給する第1供給部と、前記第1供給部の周囲に配置され、前記第1空間の周囲の第2空間の排気を行う排気部と、前記第1空間に前記モールドのパターン面に沿って一方向に向かう第1気流が形成され、前記第1気流の流速をU1、前記第2空間に形成される第2気流の前記パターン面に沿った方向の流速をU2、前記パターン面と前記基板との間の距離をDZ_g、前記パターン面の前記一方向に沿った距離をDX_pとしたときに、U1>U2、且つ、U1>DX_p/(400×DZ_g)を満たすように、前記第1供給部及び前記排気部を制御する制御部と、を有することを特徴とするインプリント装置を提供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上のインプリント材にモールドを用いてパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、 前記モールドの周囲に配置され、前記モールドと前記基板との間の第1空間へ気体を供給する第1供給部と、 前記第1供給部の周囲に配置され、前記第1空間の周囲の第2空間の排気を行う排気部と、 前記第1空間に前記モールドのパターン面に沿って一方向に向かう第1気流が形成され、前記第1気流の流速をU1、前記第2空間に形成される第2気流の前記パターン面に沿った方向の流速をU2、前記パターン面と前記基板との間の距離をDZ_g、前記パターン面の前記一方向に沿った距離をDX_pとしたときに、U1>U2、且つ、U1>DX_p/(400×DZ_g)を満たすように、前記第1供給部及び前記排気部を制御する制御部と、 を有することを特徴とするインプリント装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/02

FI (3件)：

H01L21/30 502D ,  H01L21/30 503G ,  B29C59/02 Z

Fターム (13件)：

4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AM26 ,  4F209AR08 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA31