特許

J-GLOBAL ID：201703000281715320

薄膜形成装置

発明者： 藤元 高佳 ,  陣田 敏行 ,  酒井 博史
出願人/特許権者： 東レエンジニアリング株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-040578
公開番号（公開出願番号）：特開2017-155298
出願日： 2016年03月03日
公開日（公表日）： 2017年09月07日
要約：

【課題】帯状の基材のシワの発生を抑え、基材上に安定した蒸着膜を形成することができる薄膜形成装置を提供する。【解決手段】帯状の基材2に所定の張力をかけながら基材2を所定の搬送方向に搬送させる搬送部と、搬送部により搬送される基材2の膜形成面に蒸着膜を形成する成膜部7と、基材2の搬送に関して成膜部7よりも上流にあり基材2の膜形成面の反対側の面にシート状の支持体11を貼り付ける支持体貼り付け部10と、を備え、支持体貼り付け部10における基材2の周囲の圧力は、成膜部7における基材2の周囲の圧力よりも低い。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

帯状の基材に所定の張力をかけながら基材を所定の搬送方向に搬送させる搬送部と、 前記搬送部により搬送される基材の膜形成面に蒸着膜を形成する成膜部と、 基材の搬送に関して前記成膜部よりも上流にあり基材の前記膜形成面の反対側の面にシート状の支持体を貼り付ける支持体貼り付け部と、 を備え、 前記支持体貼り付け部における基材の周囲の圧力は、前記成膜部における基材の周囲の圧力よりも低いことを特徴とする、薄膜形成装置。

IPC (2件)：

C23C 16/54 ,  C23C 14/56

FI (2件)：

C23C16/54 ,  C23C14/56 A

Fターム (26件)：

4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA46 ,  4K029BB02 ,  4K029BD01 ,  4K029CA01 ,  4K029CA05 ,  4K029DB14 ,  4K029DC16 ,  4K029FA01 ,  4K029JA10 ,  4K029KA03 ,  4K030AA06 ,  4K030AA14 ,  4K030AA16 ,  4K030AA17 ,  4K030BA44 ,  4K030BA48 ,  4K030BB13 ,  4K030CA07 ,  4K030DA02 ,  4K030FA01 ,  4K030GA14 ,  4K030HA01 ,  4K030JA09 ,  4K030LA16