特許

J-GLOBAL ID：201703000305095581

塗布方法、塗布装置およびノズル

発明者： 安陪 裕滋 ,  田中 友耶
出願人/特許権者： 株式会社SCREENホールディングス
代理人 (2件)： 振角 正一 ,  大西 一正
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-053366
公開番号（公開出願番号）：特開2017-168705
出願日： 2016年03月17日
公開日（公表日）： 2017年09月21日
要約：

【課題】前処理を受けた基板の一方主面にフォトレジスト液を塗布して後処理を施すために用いられるレジスト膜を一方主面に形成する塗布技術を改良することで、前処理や後処理において処理の不均一性が発生する場合であっても、当該不均一性の影響を抑制して良好な製品製造を可能とする。【解決手段】前処理および後処理のうち少なくとも一方が一方主面の面内において処理の不均一性を有するとき、一方主面の面内におけるレジスト膜の膜厚が不均一性に対応して相違するようにフォトレジスト液を塗布して不均一性を補完する塗布工程を備えている。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

前処理を受けた基板の一方主面にフォトレジスト液を塗布して後処理を施すために用いられるレジスト膜を前記一方主面に形成する塗布方法であって、 前記前処理および前記後処理のうち少なくとも一方が前記一方主面の面内において処理の不均一性を有するとき、前記一方主面の面内における前記レジスト膜の膜厚が前記不均一性に対応して相違するように前記フォトレジスト液を塗布して前記不均一性を補完する塗布工程を備えることを特徴とする塗布方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  B05C 5/02 ,  B05D 7/24 ,  B05D 1/36 ,  B05D 3/00

FI (5件)：

H01L21/30 564Z ,  B05C5/02 ,  B05D7/24 301T ,  B05D1/36 Z ,  B05D3/00 F

Fターム (27件)：

4D075AC02 ,  4D075AC88 ,  4D075AC91 ,  4D075AC92 ,  4D075AC94 ,  4D075AE03 ,  4D075AE05 ,  4D075AE27 ,  4D075BB42Z ,  4D075BB66Z ,  4D075CA47 ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC21 ,  4D075EA45 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AA06 ,  4F041AB01 ,  4F041BA34 ,  4F041CA02 ,  4F041CA16 ,  4F041CA22 ,  5F146JA01 ,  5F146JA27