特許
J-GLOBAL ID:201703000422544311

粒子線治療装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人開知国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-042725
公開番号(公開出願番号):特開2017-153908
出願日: 2016年03月04日
公開日(公表日): 2017年09月07日
要約:
【課題】がん治療を受ける患者の心理的負担を従来に比べてより低減することができる粒子線治療装置を提供する。【解決手段】重粒子線を加速するシンクロトロン20と、このシンクロトロン20で加速されたビームを輸送するビーム輸送系15と、このビーム輸送系15により輸送されたビームを標的に照射する照射装置250を有する照射系10a,10bと、シンクロトロン20、ビーム輸送系15および照射系10a,10bを制御する制御装置100と、照射系10a,10bの照射装置250が配置される治療室200と、を備え、照射装置250のカバー300と治療室200の側壁210とが、なだらかな曲線でつながれた形状である。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
粒子線を加速する加速器と、 この加速器で加速された前記粒子線を輸送するビーム輸送系と、 このビーム輸送系により輸送された前記粒子線を標的に照射する照射装置を有する照射系と、 前記加速器、前記ビーム輸送系および前記照射系を制御する制御装置と、 前記照射系の前記照射装置が配置される治療室と、を備え、 前記照射装置と前記治療室の側壁とが、なだらかな曲線でつながれた形状である ことを特徴とする粒子線治療装置。
IPC (1件):
A61N 5/10
FI (2件):
A61N5/10 ,  A61N5/10 H
Fターム (4件):
4C082AA01 ,  4C082AC04 ,  4C082AE01 ,  4C082AT04
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 医療用処置室、医療用支援システム
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2010-100617   出願人:株式会社T&Mコーポレーション, 有限会社デルタデザイン
  • 部屋構造
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-233319   出願人:日立プラント建設株式会社

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