プラズマ生成装置、プラズマ生成方法およびプラズマ処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：渡辺望稔 , 三和晴子 , 伊東秀明 , 三橋史生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-056645
公開番号（公開出願番号）：特開2017-174526
出願日： 2016年03月22日
公開日（公表日）： 2017年09月28日
要約：

【課題】簡易的な機構で高周波電極上の定在波の腹の位置を連続的に調整することができ、最適な電圧分布を簡便に得ることができるプラズマ生成装置、プラズマ生成方法およびプラズマ処理方法を提供する。【解決手段】複数の給電点を有する電極、電極の主面に対面して配置される対向電極、電極に高周波電力を供給し電極と対向電極との間にプラズマを励起する高周波電源、高周波電源から電極の複数の給電点に接続されている複数の導線、導線を覆って配置される、接地された接地導体、および、少なくとも1つの導線と接地導体との間の少なくとも一部に配置される誘電体、を有し、誘電体が、導線と、導体に近接する接地導体と、の間の空間に占める誘電体の割合を変更可能に配置されている。【選択図】図1A

請求項（抜粋）：

複数の給電点を有する電極、前記電極の主面に対面して配置される対向電極、前記電極に高周波電力を供給し前記電極と前記対向電極との間にプラズマを励起する高周波電源、前記高周波電源から前記電極の複数の前記給電点に接続されている複数の導線、前記導線を覆って配置される、接地された接地導体、および、少なくとも1つの前記導線と前記接地導体との間の少なくとも一部に配置される誘電体、を有し、前記誘電体が、前記導線と、前記導線に近接する前記接地導体との間の空間に占める前記誘電体の割合を変更可能に配置されていることを特徴とするプラズマ生成装置。

IPC (3件)：

H05H 1/46 , C23C 16/509 , H01L 21/306

FI (3件)：

H05H1/46 M , C23C16/509 , H01L21/302 101B

Fターム (45件)：

2G084AA02 , 2G084AA05 , 2G084BB01 , 2G084BB02 , 2G084BB05 , 2G084BB07 , 2G084BB14 , 2G084BB22 , 2G084BB35 , 2G084BB37 , 2G084CC04 , 2G084CC05 , 2G084CC12 , 2G084CC33 , 2G084DD02 , 2G084DD15 , 2G084DD22 , 2G084DD23 , 2G084DD38 , 2G084DD40 , 2G084DD48 , 2G084DD55 , 2G084DD61 , 2G084DD65 , 2G084DD67 , 2G084FF07 , 2G084FF15 , 2G084HH07 , 2G084HH22 , 2G084HH27 , 2G084HH29 , 2G084HH30 , 2G084HH43 , 2G084HH44 , 2G084HH55 , 4K030FA03 , 4K030KA12 , 4K030KA15 , 4K030KA19 , 4K030KA30 , 4K030KA46 , 5F004AA01 , 5F004BA06 , 5F004BA07 , 5F004BB13

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭58-145100
プラズマ化学蒸着方法及びプラズマ化学蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-313142 出願人：三菱重工業株式会社
特開昭64-016277

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