特許

J-GLOBAL ID：201703000588201781

インプラント及びその製造方法

発明者： 赤羽 学 ,  田中 康仁 ,  古川 彰
出願人/特許権者： 公立大学法人奈良県立医科大学 ,  三菱製紙株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人 安富国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-069401
公開番号（公開出願番号）：特開2016-188195
出願日： 2015年03月30日
公開日（公表日）： 2016年11月04日
要約：

【課題】 インプラントからストロンチウムイオンを長期に亘り濃度を制御して徐放する機能を備え、安全性が高く、生体親和性と骨伝導性に優れたインプラント及びその製造方法を与えること。【解決手段】 ストロンチウムを、アパタイト中に含まれる全元素の総質量に対する比率として10〜65質量%含み、結晶性を有するアパタイト微粒子と水分散型ポリウレタンエマルジョンとを、両者の質量比で10:2〜10:20の範囲で含有する層をインプラント基材上に設ける。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ストロンチウムを、アパタイト中に含まれる全元素の総質量に対する比率として10〜65質量%含み、結晶性を有するアパタイト微粒子と、水分散型ポリウレタンエマルジョンとを、両者の質量比で10:2〜10:20の範囲で含有する層を基材上に有するインプラント。

IPC (2件)：

A61K 6/00 ,  A61F 2/28

FI (2件)：

A61K6/00 C ,  A61F2/28

Fターム (11件)：

4C089AA13 ,  4C089BA15 ,  4C089BA20 ,  4C089BD05 ,  4C097AA01 ,  4C097BB01 ,  4C097DD01 ,  4C097DD06 ,  4C097EE09 ,  4C097FF03 ,  4C097MM04